特許
J-GLOBAL ID：200903011460975279

基板処理装置

発明者：
氷室 徹

氷室 徹 について

, 
谷口 竹志

谷口 竹志 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-274713
公開番号（公開出願番号）：特開2001-102283
出願日： 1999年09月28日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
要約：
【要約】【課題】複雑な切替機構を設けることなく処理することが可能であるとともに、基板寸法が変更された場合も、簡易に基板の寸法変更に対応できる基板処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】搬送ローラ10の上部には、基板Aの搬送方向に沿って延設された吐出口を形成されたスリットノズル8が設けられおり、その吐出口は搬送方向と直交する方向の基板幅が、基板処理装置1で処理可能な最大幅の基板Bにおける、搬送方向と直交する方向の上部端縁に向けて処理液を供給できるように配置されている。上記スリットノズルの下方には、実際に処理される基板Aの寸法が、最大寸法の基板Bよりも短い場合に、スリットノズル8から供給される処理液を基板Aに案内するための処理液案内手段として、案内板20が配置されている。スリットノズル8より供給された処理液は、案内板20により規定寸法の基板Aにおける上端端縁部位置Yと、基板Aの上端縁部側有効領域位置Pとの中間まで案内され、基板A上に供給される。
請求項（抜粋）：
基板を所定の搬送方向に搬送しつつその表面に処理液を供給して基板の表面処理を行う基板処理装置において、表面処理されるべき基板を、上記搬送方向に直交する幅方向について水平状態から所定の角度だけ傾斜させつつ搬送する傾斜搬送手段と、傾斜搬送手段により傾斜させられつつ搬送される基板の上記幅方向の所定位置において、傾斜させられつつ搬送される基板に処理液を供給する処理液供給手段と、処理液供給手段から供給された処理液が、傾斜させられつつ搬送される基板の幅方向上端に供給されるように案内する処理液案内手段と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (7件)：
H01L 21/027 ,  B08B 3/02 ,  B65G 49/06 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 648 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/68
FI (8件)：
B08B 3/02 B ,  B65G 49/06 Z ,  H01L 21/304 643 B ,  H01L 21/304 648 A ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 569 D ,  H01L 21/30 569 E ,  H01L 21/306 R
Fターム (20件)：
3B201AA02 ,  3B201AB14 ,  3B201BB21 ,  3B201BB92 ,  3B201CB01 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  5F031CA05 ,  5F031CA20 ,  5F031GA53 ,  5F031MA23 ,  5F031MA24 ,  5F043EE07 ,  5F043EE36 ,  5F043EE40 ,  5F043GG10 ,  5F046CC01 ,  5F046CC18 ,  5F046CD08 ,  5F046DA05
引用特許：
審査官引用 (10件)
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