特許

J-GLOBAL ID：200903011532711565

アクリル系共重合体および感放射線性樹脂組成物

発明者： 石井 寛之 ,  藤原 考一 ,  山口 宙志 ,  西村 幸生
出願人/特許権者： JSR株式会社
代理人 (1件)： 和気 操
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-375210
公開番号（公開出願番号）：特開2004-176049
出願日： 2003年11月05日
公開日（公表日）： 2004年06月24日
要約：

【課題】 特定の構造を有するアクリル系共重合体、およびこの共重合体を用いることにより、放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に、コンタクトホールおよびラインスペース形成時のレジストとして優れる。【解決手段】 下記式(4-1)、式(4-2)および式(4-3)で表される繰り返し単位を含むアクリル系共重合体およびこの共重合体を用いた感放射線性樹脂組成物。【化1】【選択図】 無

請求項（抜粋）：

下記式(1)、式(2)および式(3)で表される繰り返し単位を含むことを特徴とするアクリル系共重合体。

IPC (4件)：

C08F220/28 ,  G03F7/033 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (4件)：

C08F220/28 ,  G03F7/033 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (32件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA11P ,  4J100BA16R ,  4J100BA20R ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC07Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC53P ,  4J100CA05 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (5件)

• 特許第3042618号公報(特許請求の範囲)
  
• レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-050264   出願人：富士通株式会社
• 化学増幅型ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-352700   出願人：住友化学工業株式会社
• フォトレジスト用高分子化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-185580   出願人：ダイセル化学工業株式会社
• フォトレジスト用高分子化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-186493   出願人：ダイセル化学工業株式会社

審査官引用 (1件)

• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-107305   出願人：富士写真フイルム株式会社