特許
J-GLOBAL ID：200903012002154629
粒子のサイズおよび形状を決定する方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
大塚 康徳
, 高柳 司郎
, 大塚 康弘
, 木村 秀二
, 下山 治
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-502075
公開番号（公開出願番号）：特表2007-527997
出願日： 2005年03月07日
公開日（公表日）： 2007年10月04日
要約：
粒子を計数し、選択したサイズ範囲に分類することによって粒子試料のサイズ分布を測定する機器。粒子濃度は、一度に複数の粒子から散乱を測定する確率が許容し得るレベルに下がるレベルに下げる。光ビームは、集束またはコリメートされ、粒子が貫通して流れる試料セルを通る。各粒子がビームを通過するとき、粒子は、粒子サイズに応じて、異なる量の光を散乱させ、吸収し、透過させる。そのため、粒子によって光が取り去られるためにビーム強度が減少し、かつ、粒子によって散乱する光が増大し、それらを利用して粒子サイズを求めて、粒子を分類し、ある種のサイズ範囲内で粒子を計数することができる。すべての粒子が単一ビームを通過する場合、各大型粒子ごとに多数の小型粒子を計数しなければならない。というのは、典型的な分布は粒子の体積単位で均一であり、個数分布は粒子径の3乗で体積の分布に関係するからである。
請求項（抜粋）：
粒子試料中の複数の粒子サイズを決定する方法であって、
試料チャンバを供給する工程と、
レーザ光ビームを生成するレーザ光源を供給する工程と、
前記試料チャンバに前記粒子試料を通過させる工程と、
前記試料チャンバ中の特定ポイントに前記レーザ光ビームを集束させる工程であって、前記特定ポイントを通過する少なくとも1つの粒子によって前記レーザ光ビームが回折され、それにより前記特定ポイントから回折光が発する工程と、
光を対応する電子信号に変換する少なくとも1つの検出器アレイを供給する工程と、
前記試料チャンバ中の前記特定ポイントに集束する少なくとも1つのレンズを供給する工程であって、前記少なくとも1つのレンズが前記回折光の少なくとも一部を前記少なくとも1つの検出器アレイに向ける工程と、
前記少なくとも1つの検出器アレイによって発生した前記電子信号を解析することによって、前記回折光を発生させる前記少なくとも1つの粒子のサイズを決定する工程と、
を有することを特徴とする方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N15/02 A
, G01B11/10 G
2F065AA26
, 2F065BB15
, 2F065FF44
, 2F065FF48
, 2F065GG04
, 2F065JJ05
, 2F065LL04
, 2F065QQ18
, 2F065QQ29
