特許
J-GLOBAL ID：200903012056203048

液晶装置の製造装置、及び液晶装置の製造方法

発明者：
伊藤 佳史

伊藤 佳史 について

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門倉 貞夫

門倉 貞夫 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について

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株式会社 エフ・ティ・エス コーポレーション

株式会社 エフ・ティ・エス コーポレーション について


代理人 (3件)： 西 和哉 ,  志賀 正武 ,  青山 正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-114322
公開番号（公開出願番号）：特開2007-286401
出願日： 2006年04月18日
公開日（公表日）： 2007年11月01日
要約：
【課題】プラズマに起因して所望形状の無機配向膜が得られなくなってしまうのを防止し、良好な無機配向膜を形成できるようにした液晶装置の製造装置を提供する。【解決手段】本発明の液晶装置の製造装置1は、成膜室2と、該成膜室2内にて前記基板Wに配向膜材料をスパッタ法で成膜して無機配向膜を形成するスパッタ装置3とを備え、前記スパッタ装置3は、プラズマ生成領域を挟んで対向する一対のターゲット5a、5bと、前記プラズマ生成領域からスパッタ粒子5pを放出する開口部3aと、前記プラズマ生成領域に含まれる電子を捕捉ないし反射する電子拘束手段(磁界発生手段16a、16b)とを有しており、前記開口部3aは、前記基板Wに対して斜め方向から前記スパッタ粒子5pを入射させる位置に配置されている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
対向する一対の基板間に挟持された液晶層を備え、少なくとも一方の前記基板の内面側に無機配向膜を形成してなる液晶装置の製造装置であって、 成膜室と、該成膜室内にて前記基板に配向膜材料をスパッタ法で成膜して無機配向膜を形成するスパッタ装置とを備え、 前記スパッタ装置は、プラズマ生成領域を挟んで対向する一対のターゲットと、前記プラズマ生成領域からスパッタ粒子を放出する開口部と、前記プラズマ生成領域の前記開口部側に設けられて前記プラズマ生成領域に含まれる電子を捕捉ないし反射する電子拘束手段とを有しており、 前記開口部は、前記基板に対して斜め方向から前記スパッタ粒子を入射させる位置に配置されていることを特徴とする液晶装置の製造装置。
IPC (1件)：
G02F 1/133
FI (1件)：
G02F1/1337
Fターム (10件)：
2H090HB02Y ,  2H090HB03Y ,  2H090HC03 ,  2H090HC13 ,  2H090HC18 ,  2H090HC19 ,  2H090LA09 ,  2H090LA15 ,  2H090LA16 ,  2H090MB06
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (8件)
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