特許
J-GLOBAL ID：200903012117295471
荷電粒子照射装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-008713
公開番号（公開出願番号）：特開2003-215299
出願日： 2002年01月17日
公開日（公表日）： 2003年07月30日
要約：
【要約】【課題】 照射ノズル部の位置合わせ時間が短縮するとともに患部への荷電粒子ビーム照射の精度が向上すること等を実現する荷電粒子照射装置を得る。【解決手段】 荷電粒子照射装置1は、荷電粒子ビームを輸送する荷電粒子誘導手段106と、輸送されてきた荷電粒子ビームを整形して照射する荷電粒子照射手段109とを備えている。荷電粒子誘導手段106は誘導支持移動手段2に支持され、荷電粒子照射手段109は照射支持移動手段3に支持されている。荷電粒子誘導手段106及び荷電粒子照射手段109はそれぞれ回転リング結合体123及び回転リング結合体123Aによって別々に移動できるようになっている。従って、荷電粒子誘導手段106及び荷電粒子照射手段109それぞれの機能を必要とするときに独立して移動でき、移動距離が短く時間短縮になる。また、それぞれの支持移動手段の支持重量が小さくなるので、撓みも小さくなる。
請求項（抜粋）：
軸線上に設けられた被照射体に荷電粒子ビームを照射する荷電粒子照射装置であって、前記荷電粒子ビームを前記被照射体に向けて偏向させる荷電粒子誘導手段と、前記荷電粒子誘導手段を支持し、前記荷電粒子誘導手段を前記軸線を中心とした円環軌道上で移動させる誘導支持移動手段と、前記偏向された前記荷電粒子ビームを前記被照射体の所定範囲に照射すように整形して照射する荷電粒子照射手段と、前記荷電粒子照射手段を支持し、前記荷電粒子照射手段を前記軸線を中心とした円環軌道上で移動させる照射支持移動手段とを備え、前記荷電粒子誘導手段と前記荷電粒子照射手段とがそれぞれ独立して移動するようになっていることを特徴とする荷電粒子照射装置。
IPC (3件)：
G21K 5/04
, A61N 5/10
, G21K 5/10
G21K 5/04 A
, G21K 5/04 C
, A61N 5/10 H
, A61N 5/10 Q
, G21K 5/10 M
4C082AA01
, 4C082AC05
, 4C082AE03
, 4C082AG01
, 4C082AG54
, 4C082AP03
, 4C082AP12
