特許
J-GLOBAL ID：200903013024158039

放射ビームから粒子をフィルタ除去するように動作可能なフィルタ・システムを提供する方法、フィルタ・システム、装置、及びフィルタ・システムを含むリソグラフィ装置

発明者：
レフィヌス ピーター バッカー

レフィヌス ピーター バッカー について


出願人/特許権者：
エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ

エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ について


代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  森 徹 ,  吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-375653
公開番号（公開出願番号）：特開2006-196890
出願日： 2005年12月27日
公開日（公表日）： 2006年07月27日
要約：
【課題】放射ビームから粒子をフィルタ除去するように動作可能なフィルタ・システムを提供する方法、フィルタ・システム、装置、及びリソグラフィ装置を提供すること。【解決手段】リソグラフィ、例えば極紫外線リソグラフィに使用するのに適した、放射ビームから粒子をフィルタ除去するように動作可能なフィルタ・システムを提供する方法が提供され、この方法は、粒子を捕捉するための弛緩フォイル又は弛緩ワイヤを提供すること、フォイル又はワイヤの少なくとも第1の点又は側面を取付アセンブリの第1の位置に取り付けること、及び、少なくとも使用時に、少なくとも放射ビームの範囲内で、弛緩フォイル又は弛緩ワイヤを放射が伝播する方向にほぼ平行に実質的に伸ばすことを含む。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
リソグラフィ、例えば極紫外線リソグラフィに使用するのに適した、放射ビームから粒子をフィルタ除去するように動作可能なフィルタ・システムを提供する方法であって、 前記粒子を捕捉する(intercept)ための弛緩フォイル又は弛緩ワイヤを提供すること、 前記フォイル又はワイヤの第1の点又は側面を取付アセンブリの少なくとも第1の位置に取り付けること、及び、 少なくとも使用時に、少なくとも前記放射ビームの範囲内で、前記弛緩フォイル又は弛緩ワイヤを前記放射が伝播する方向にほぼ平行に実質的に伸ばすことを含む方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (4件)：
H01L21/30 531A ,  H01L21/30 517 ,  H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521
Fターム (9件)：
5F046BA05 ,  5F046CA03 ,  5F046CB08 ,  5F046CB23 ,  5F046DA01 ,  5F046GA03 ,  5F046GA14 ,  5F046GB07 ,  5F046GC03
引用特許：
審査官引用 (7件)
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