特許
J-GLOBAL ID：200903013114152382

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
三枝 浩

三枝 浩 について

, 
和田 健二

和田 健二 について

, 
榎本 雄一郎

榎本 雄一郎 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-227547
公開番号（公開出願番号）：特開2009-080482
出願日： 2008年09月04日
公開日（公表日）： 2009年04月16日
要約：
【課題】通常露光(ドライ露光)のみならず液浸露光においても、現像欠陥が少なく、対膜減り性能を持ち、ラインエッジラフネス性能にも優れ、スカムの発生が抑制された、また、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。【解決手段】(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)フッ素原子及び珪素原子のを有さない分子量分散度が1.3以下、かつ重量平均分子量が1.0×104以下である樹脂、および(D)溶剤を含有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 (B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、 (C)フッ素原子及び珪素原子のいずれも有さない、分子量分散度が1.3以下、かつ重量平均分子量が1.0×104以下である疎水性樹脂、および (D)溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (7件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/38 ,  C08F 12/06 ,  C08F 16/12 ,  C08F 20/10 ,  H01L 21/027
FI (7件)：
G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/38 501 ,  C08F12/06 ,  C08F16/12 ,  C08F20/10 ,  H01L21/30 502R
Fターム (87件)：
2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA01 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096DA04 ,  2H096EA03 ,  2H096EA05 ,  2H096EA06 ,  2H096EA07 ,  2H096EA23 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096JA02 ,  4J100AA06P ,  4J100AA15P ,  4J100AA15Q ,  4J100AB04P ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AE02P ,  4J100AE29P ,  4J100AE29Q ,  4J100AJ02Q ,  4J100AJ02R ,  4J100AJ02S ,  4J100AK32Q ,  4J100AL03P ,  4J100AL03Q ,  4J100AL03R ,  4J100AL04P ,  4J100AL04Q ,  4J100AL04R ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL75Q ,  4J100AM21Q ,  4J100AM21R ,  4J100AM45Q ,  4J100AR11P ,  4J100AR22P ,  4J100BA04P ,  4J100BA04Q ,  4J100BA11Q ,  4J100BA11R ,  4J100BA20P ,  4J100BA40Q ,  4J100BA58Q ,  4J100BA58R ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC08P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC08R ,  4J100BC53Q ,  4J100BC53R ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100GC07 ,  4J100GC17 ,  4J100GC35 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (8件)
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