特許

J-GLOBAL ID：200903031367112970

ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法

発明者： 武田 隆信 ,  福田 英次 ,  前田 和規 ,  渡邉 聡
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-039360
公開番号（公開出願番号）：特開2006-225476
出願日： 2005年02月16日
公開日（公表日）： 2006年08月31日
要約：

【課題】従来のポジ型レジスト材料と同等か若しくはこれを上回るほど高感度、高解像度であるとともに、特に高反射基板上でのパターン形状が良好で、定在波の発生が軽減され、エッジラフネスが少ない特性を示すポジ型レジスト材料を提供する。【解決手段】少なくとも、ベース樹脂に含まれる高分子化合物が、波長248nmの光において吸収のある酸不安定基を有する繰り返し単位を含むものであり、且つ、該繰り返し単位が、前記ベース樹脂に含まれる全ての高分子化合物の繰り返し単位中、1%〜10%の割合で含まれるものであることを特徴とするポジ型レジスト材料。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

少なくとも、ベース樹脂に含まれる高分子化合物が、波長248nmの光において吸収のある酸不安定基を有する繰り返し単位を含むものであり、且つ、該繰り返し単位が、前記ベース樹脂に含まれる全ての高分子化合物の繰り返し単位中、1%〜10%の割合で含まれるものであることを特徴とするポジ型レジスト材料。

IPC (5件)：

C08F 246/00 ,  C08F 212/14 ,  C08F 220/18 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

C08F246/00 ,  C08F212/14 ,  C08F220/18 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (29件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CB51 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07P ,  4J100AL02R ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04S ,  4J100BA07Q ,  4J100BA07S ,  4J100BA20P ,  4J100DA39 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (6件)

• 特公平2-27660号公報
  
• 特開昭63-27829号公報
  
• 特開平3-275149号公報、
  
• レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-097139   出願人：日本ゼオン株式会社
• 微細パターン形成材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-246324   出願人：和光純薬工業株式会社, 松下電器産業株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-094330   出願人：富士写真フイルム株式会社

審査官引用 (5件)

• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-019001   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 有機ケイ素重合体およびレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-284841   出願人：富士通株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-318802   出願人：ジェイエスアール株式会社
• 高分子化合物の製造方法及びレジスト材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-174951   出願人：信越化学工業株式会社
• 高分子化合物及びポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-175034   出願人：信越化学工業株式会社