特許
J-GLOBAL ID:200903013253435674

還元鋳造装置および還元鋳造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 綿貫 隆夫 ,  堀米 和春
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-294475
公開番号(公開出願番号):特開2006-102789
出願日: 2004年10月07日
公開日(公表日): 2006年04月20日
要約:
【課題】 還元性物質の活性を損なうことなく溶湯に効果的に還元性物質を作用させることができ、コンパクトな装置構成とした還元鋳造装置を提供する。【解決手段】 給湯槽30に、給湯槽内の溶湯34の熱を受けて内部が加熱され、反応性ガスと反応して還元性物質を生成する金属、あるいは還元性物質を収容する活性化室40を設け、活性化室40と、キャビティ20aあるいはキャビティに充填される溶湯の流路32との連通を開閉制御するシール機構60を設け、該シール機構60を開放して、前記活性化室40から前記キャビティ20aもしくはキャビティに連通する流路32内へ、前記活性化室でガス化された金属ガスを送入するとともに、前記反応性ガスを送入して前記キャビティもしくは流路内で還元性物質を生成し、あるいは前記活性化室から前記キャビティもしくはキャビティに連通する流路内へ、前記活性化室で加熱されて活性化された還元性物質を送入することにより、前記キャビティ20aに溶湯34を充填する際に、溶湯の表面の酸化被膜を前記還元性物質により還元しつつ鋳造可能に設けられている。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
給湯槽から成形型のキャビティに溶湯を充填する際に、溶湯に還元性物質を作用させ溶湯表面の酸化被膜を還元しつつキャビティに溶湯を充填して鋳造する還元鋳造装置において、 前記給湯槽に、該給湯槽内の溶湯の熱を受けて内部が加熱され、反応性ガスと反応して前記還元性物質を生成する金属、あるいは還元性物質を収容する活性化室を設け、 前記活性化室と、前記キャビティあるいはキャビティに充填される溶湯の流路との連通を開閉制御するシール機構を設け、 該シール機構を開放して、前記活性化室から前記キャビティもしくはキャビティに連通する流路内へ、前記活性化室でガス化された金属ガスを送入するとともに、前記反応性ガスを送入して前記キャビティもしくは流路内で還元性物質を生成し、あるいは前記活性化室から前記キャビティもしくはキャビティに連通する流路内へ、前記活性化室で加熱されて活性化された還元性物質を送入することにより、 前記キャビティに溶湯を充填する際に、溶湯の表面の酸化被膜を前記還元性物質により還元しつつ鋳造可能に設けられていることを特徴とする還元鋳造装置。
IPC (5件):
B22D 27/18 ,  B22D 18/04 ,  B22D 21/04 ,  B22D 23/00 ,  B22D 39/06
FI (6件):
B22D27/18 Z ,  B22D18/04 K ,  B22D18/04 Z ,  B22D21/04 A ,  B22D23/00 B ,  B22D39/06
Fターム (1件):
4E014LA09
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (10件)
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