エッチング装置,搬送トレー,露光用マスク及び露光用マスクの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-353497
公開番号（公開出願番号）：特開平11-186234
出願日： 1997年12月22日
公開日（公表日）： 1999年07月09日
要約：

【要約】【課題】露光用マスクの石英ガラスのエッチング速度の面内均一化を図る。【解決手段】高周波電源に接続する電極11上の露光用マスク基板20の配置される領域以外に、電極を覆う4枚のカバー30が載置されている。4枚のカバー30を、露光用マスク20の4辺に対してそれぞれ押し付けるためのアーム12が設けられている。露光用マスク基板20は、石英ガラス21上に導電性遮光膜であるCr膜22が形成されて構成されている。また、カバー30は、露光用マスク基板20と同様に、絶縁性基板31の表面にCr膜32が形成されている。

請求項（抜粋）：

絶縁基板上に該基板より抵抗の低い低抵抗膜が形成された基体を電極上に載置し、プラズマを用いた異方性エッチングを行うエッチング装置において、前記電極上に配置され、前記基体が配置される領域以外の電極を覆うカバーを具備し、前記カバーは、前記基体の絶縁基板と同種の材料から構成された絶縁部と、この絶縁部上に形成され、前記低抵抗膜と同質の膜とからなることを特徴とするエッチング装置。

IPC (4件)：

H01L 21/3065 , C23F 4/00 , G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (4件)：

H01L 21/302 B , C23F 4/00 A , G03F 1/08 L , H01L 21/30 502 P

引用特許：

審査官引用 (7件)

被処理材の固定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-012927 出願人：東芝機械株式会社
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-000622 出願人：株式会社東芝
ドライエッチング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-072788 出願人：アルバック成膜株式会社

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