マルチ荷電粒子ビーム露光方法及び装置

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松本眞吉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-230176
公開番号（公開出願番号）：特開平9-074060
出願日： 1995年09月07日
公開日（公表日）： 1997年03月18日
要約：

【要約】【課題】露光のスループットを向上させる。【解決手段】副偏向器で偏向させて連続露光可能な1走査範囲のビットマップデータを単位としてチェックサムを求める。このチェックサムは、ビットマップ展開前の図形データの段階で求めることができ、また、ビットマップ展開後に求める場合には、リフォーカス値の途中計算結果を利用できる。主偏向器の偏向量を固定しステージを定速移動させている状態で、露光データとしてブロック化されたp個の並列セルストライプのうち副偏向器で走査可能なk個のセルストライプを走査し、主偏向器の偏向量をステップ変化させ、残りのp-k個のセルストライプを走査する。k及びステップ変化量をリアルタイムで演算する。副偏向器に駆動電圧を供給する増幅&ローパスフィルタ回路は、鋸波のフライバック時に増幅率を変えないでカットオフ周波数が高い方に切り換えられる。

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビームを放射する手段と、該荷電粒子ビームを通して該荷電粒子ビームをマルチ荷電粒子ビームにするために2次元的に配列された複数の開口が基板に形成され、該基板の各開口の縁部に一対の偏向電極が形成されたブランキングアパーチャアレイと、被露光体を支持するステージと、供給されるビットマップデータに応じて、該ブランキングアパーチャアレイを通った該マルチ荷電粒子ビームの一部が該被露光体上に到達しないように該ブランキングアパーチャアレイの該偏向電極に電圧を印加することにより、該マルチ荷電粒子ビームの断面をドットパターンに整形するブランキングアパーチャアレイ駆動手段と、整形された該マルチ荷電粒子ビームを該被露光体上の走査位置に照射させるために該マルチ荷電粒子ビームを偏向させる偏向手段とを有するマルチ荷電粒子ビーム露光装置を用いた露光方法であって、該ブランキングアパーチャアレイ駆動手段へ該ビットマップデータを供給する前の段階において、該マルチ荷電粒子ビームを該被露光体上に連続して照射可能な帯状走査範囲の該ビットマップデータを単位とし、該ビットマップデータの‘1’又は‘0’の一方の全個数を第1チェックサムとして予め求めておく第1工程と、該ブランキングアパーチャアレイ駆動手段の出力段から順次取り出される該ビットマップデータについて、該第1チェックサムに対応した第2チェックサムをリアルタイムで求める第2工程と、該第1チェックサムと該第2チェックサムとを比較する第3工程とを有することを特徴とするマルチ荷電粒子ビーム露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , H01J 37/317

FI (3件)：

H01L 21/30 541 M , H01J 37/317 C , H01L 21/30 541 E

引用特許：

出願人引用 (11件)

電子ビーム露光装置及び方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-153776 出願人：富士通株式会社
特開平2-252230
特開昭57-095629

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審査官引用 (3件)

電子ビーム露光装置及び方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-153776 出願人：富士通株式会社
特開平2-252230
特開昭57-095629

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