特許
J-GLOBAL ID：200903013381861244

液晶素子及びその製造方法

発明者：
西田 直哉

西田 直哉 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 近島 一夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-266312
公開番号（公開出願番号）：特開平9-166776
出願日： 1996年10月07日
公開日（公表日）： 1997年06月24日
要約：
【要約】【課題】 絶縁耐圧の優れた絶縁膜を形成することにより、液晶素子の生産性及び歩留まりの向上を図る。【解決手段】 液晶素子の上下基板に設けられた電極間を絶縁するための絶縁膜11を、印刷塗布、焼成によって形成された第1の絶縁層14と、その液晶側に真空成膜によって形成された第2の絶縁層15との2層構成とすることにより、絶縁耐圧の優れた安定した絶縁膜が形成される。
請求項（抜粋）：
それぞれ電極を有する一対の基板間に液晶を挟持した液晶素子において、前記一対の基板の少なくとも一方は絶縁膜を有しており、前記絶縁膜は、印刷塗布、焼成によって形成された第1の絶縁層と、該第1の絶縁層の前記液晶側に真空成膜によって形成された第2の絶縁層と、を少なくとも有する、ことを特徴とする液晶素子。
IPC (2件)：
G02F 1/1333 505 ,  G02F 1/1337 510
FI (2件)：
G02F 1/1333 505 ,  G02F 1/1337 510
引用特許：
審査官引用 (10件)
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