特許
J-GLOBAL ID：200903013589245911
真空蒸着装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
飯阪 泰雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-070993
公開番号（公開出願番号）：特開2005-256113
出願日： 2004年03月12日
公開日（公表日）： 2005年09月22日
要約：
【課題】 チャンバ内におけるパーティクルの発生を低減でき、蒸発源の複数配置にも対応することができる蒸発源駆動機構を備えた真空蒸着装置を提供する。【解決手段】 一端5aが閉塞し他端5bが開放する中空軸5と、この中空軸5の閉塞端5aを真空チャンバの内部2に挿通し中空軸5を軸方向に移動させる移動機構とを有し、蒸発源4は、中空軸5の閉塞端5a側に取り付けられ、蒸発源4に導入される電力及び冷却水の供給系統7を中空軸5の内部を介して供給すると共に、移動機構は、真空チャンバの外部に設ける。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
真空チャンバ内に、蒸着材料の蒸発源を備えた真空蒸着装置において、
一端が閉塞し他端が開放された中空軸と、この中空軸の一端側を前記真空チャンバの内部に挿通し前記中空軸を軸方向に移動させる移動機構とを有し、
前記蒸発源は、前記中空軸の一端側に取り付けられ、前記蒸発源に導入される電力及び冷却水が前記中空軸の内部を介して供給されると共に、前記移動機構は、前記真空チャンバの外部に設けられていることを特徴とする真空蒸着装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (4件)：
4K029CA01
, 4K029DB14
, 4K029DB18
, 4K029DB24
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (5件)
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