特許
J-GLOBAL ID：200903013794637890
プラズマディスプレイパネルの製造方法および転写フィルム
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-368153
公開番号（公開出願番号）：特開2000-195419
出願日： 1998年12月24日
公開日（公表日）： 2000年07月14日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 寸法精度の高いパターンを形成することができ、従来の製造方法に比べて、実質的に作業性を向上することができる製造効率の優れたプラズマディスプレイパネルの製造方法および、プラズマディスプレイパネルの製造に好適に用いられる転写フィルムを提供すること。【解決手段】 非感光性の膜形成材料層21の上に感光性の膜形成材料層23を形成し、その上にレジスト膜31を形成し、当該レジスト膜を露光、現像してレジストパターンを顕在化させ、膜形成材料層をエッチング処理してレジストパターンに対応するパターンを形成し、当該パターンを焼成処理する工程を含む。
請求項（抜粋）：
支持フィルム上に形成された、放射線重合開始剤を含有しない第一の膜形成材料層を基板上に転写し、当該第一の膜形成材料層上に、放射線重合開始剤を含有する第二の膜形成材料層を形成し、当該第二の膜形成材料層上にレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光処理して、レジストパターンの潜像を形成し、当該レジスト膜を現像処理してレジストパターンを顕在化させ、膜形成材料層をエッチング処理してレジストパターンに対応する膜形成材料層のパターンを形成し、当該パターンを焼成処理する工程を含む方法により、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスの少なくともひとつを形成することを特徴とする、プラズマディスプレイパネルの製造方法。
IPC (4件)：
H01J 9/02
, H01J 9/227
, H01J 11/00
, H01J 11/02
H01J 9/02 F
, H01J 9/227 E
, H01J 11/00 K
, H01J 11/02 B
5C027AA01
, 5C027AA09
, 5C027AA10
, 5C028FF16
, 5C028HH14
, 5C028JJ09
, 5C040FA01
, 5C040FA04
, 5C040GB03
, 5C040GB14
, 5C040GC19
, 5C040GF19
, 5C040GG09
, 5C040GH03
, 5C040GH07
, 5C040JA19
, 5C040MA26
