特許
J-GLOBAL ID：200903013859423663

投影露光装置及び方法

発明者：
高橋 哲男

高橋 哲男 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 井上 義雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-002580
公開番号（公開出願番号）：特開2002-118058
出願日： 2001年01月10日
公開日（公表日）： 2002年04月19日
要約：
【要約】【課題】 露光光の照射による温度変化によって生じる収差変動を簡易に低減することができる投影露光装置。【解決手段】 マスク3のパターンからの光が、第1結像光学系K1を介して、マスクパターンの一次像Iを形成する。一次像Iからの光は、主鏡M1の中央開口部およびレンズ成分L2を介して副鏡M2で反射され、副鏡M2で反射された光はレンズ成分L2を介して主鏡M1で反射される。主鏡M1で反射された光は、レンズ成分L2および副鏡M2の中央開口部を介してウエハ9面上にマスクパターンの二次像を縮小倍率で形成する。この際、副鏡M2の反射面R2をレンズ成分L2よりも熱伝導率が大きい放熱板81で裏打ちしているので、比較的発熱の多い裏面反射面である反射面R2で発生した熱は、レンズ成分L2よりも放熱板81に逃げ易くなり、高精度の結像が可能になる。
請求項（抜粋）：
第1面の像を第2面に結像させる反射屈折光学系を備える投影露光装置であって、前記反射屈折光学系は、反射面を含む部材を有し、前記反射面を含む部材よりも熱伝導率が大きい材料を含み、かつ前記反射面を含む部材に接して配置される伝熱部材を備えることを特徴とする投影露光装置。
IPC (7件)：
H01L 21/027 ,  G02B 5/08 ,  G02B 7/182 ,  G02B 13/18 ,  G02B 17/06 ,  G02B 17/08 ,  G03F 7/22
FI (8件)：
G02B 5/08 A ,  G02B 13/18 ,  G02B 17/06 ,  G02B 17/08 A ,  G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 515 D ,  G02B 7/18 Z ,  H01L 21/30 517
Fターム (19件)：
2H042DA02 ,  2H042DA12 ,  2H042DB06 ,  2H042DD08 ,  2H043CA01 ,  2H043CE00 ,  2H087KA21 ,  2H087NA04 ,  2H087NA05 ,  2H087NA08 ,  2H087RA05 ,  2H087RA12 ,  2H087RA13 ,  2H087TA01 ,  2H087TA04 ,  2H087UA04 ,  5F046CB02 ,  5F046DA12 ,  5F046DA26
引用特許：
審査官引用 (6件)
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