特許
J-GLOBAL ID：200903014063911468

排ガス浄化装置

発明者：
松元 武史

松元 武史 について

, 
玉根 靖之

玉根 靖之 について


出願人/特許権者：
本田技研工業株式会社

本田技研工業株式会社 について


代理人 (4件)： 正林 真之 ,  高岡 亮一 ,  林 一好 ,  加藤 清志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-226980
公開番号（公開出願番号）：特開2009-057922
出願日： 2007年08月31日
公開日（公表日）： 2009年03月19日
要約：
【課題】触媒活性の効率を高めると共に、内燃機関から排出されるパティキュレートの堆積による圧力損失を抑制することが可能な排ガス浄化装置を提供すること。【解決手段】第1酸化触媒が担持される金属製のハニカム構造体を有する第1浄化部と、前記第1浄化部の下流側に配置され、前記排ガス経路における上流側と下流側とにおいて触媒の担持量が異なる第2酸化触媒が担持されるパティキュレートフィルタを有する第2浄化部と、を備える。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
内燃機関の排ガス経路に配置され、前記内燃機関から排出される排ガスを浄化する排ガス浄化装置であって、 第1酸化触媒が担持された金属製のハニカム構造体を有する第1浄化部と、 前記第1浄化部の下流側に配置され、上流側と下流側とにおいて担持量が異なるように第2酸化触媒が担持されたパティキュレートフィルタを有する第2浄化部と、を備える排ガス浄化装置。
IPC (7件)：
F01N 3/28 ,  F01N 3/10 ,  F01N 3/24 ,  F01N 3/02 ,  B01D 53/86 ,  B01D 53/94 ,  B01J 29/80
FI (9件)：
F01N3/28 301Q ,  F01N3/10 A ,  F01N3/24 E ,  F01N3/28 311S ,  F01N3/02 321A ,  B01D53/36 C ,  B01D53/36 104B ,  B01J29/80 A ,  F01N3/28 311N
Fターム (72件)：
3G090AA03 ,  3G090AA06 ,  3G090EA02 ,  3G091AA18 ,  3G091AB02 ,  3G091AB13 ,  3G091BA01 ,  3G091GA06 ,  3G091GA18 ,  3G091GB04W ,  3G091GB06W ,  3G091GB07W ,  3G091GB09W ,  3G091GB10W ,  3G091GB17W ,  3G091HA15 ,  3G091HA44 ,  3G091HA47 ,  4D048AA14 ,  4D048AA18 ,  4D048AB01 ,  4D048BA03X ,  4D048BA06X ,  4D048BA08X ,  4D048BA11X ,  4D048BA19X ,  4D048BA30X ,  4D048BA31X ,  4D048BA41X ,  4D048BB02 ,  4D048BB16 ,  4D048CC06 ,  4D048CC32 ,  4D048CC36 ,  4D048CC38 ,  4D048CC49 ,  4D048CD05 ,  4G169AA03 ,  4G169BA01A ,  4G169BA01B ,  4G169BA03B ,  4G169BA07A ,  4G169BA07B ,  4G169BA17 ,  4G169BB04A ,  4G169BB06B ,  4G169BB15B ,  4G169BC43A ,  4G169BC43B ,  4G169BC51A ,  4G169BC51B ,  4G169BC72A ,  4G169BC72B ,  4G169BC75A ,  4G169BC75B ,  4G169BD05B ,  4G169CA02 ,  4G169CA03 ,  4G169CA07 ,  4G169CA15 ,  4G169DA06 ,  4G169EA18 ,  4G169EB16X ,  4G169EB16Y ,  4G169EC28 ,  4G169EE06 ,  4G169EE08 ,  4G169FA03 ,  4G169FB30 ,  4G169FB57 ,  4G169ZA11B ,  4G169ZA19B
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 排気ガス浄化装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-278402   出願人：イビデン株式会社
審査官引用 (7件)
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