特許

J-GLOBAL ID：200903014200339041

磁気ディスクNi-P基板の研磨液用洗浄剤組成物及び該洗浄剤組成物を使用する磁気ディスクNi-P基板の製造方法

発明者： 柴田 英夫 ,  西羅 正規 ,  細見 和弘 ,  黒木 克英
出願人/特許権者： 大同化学工業株式会社
代理人 (1件)： 尾関 弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-018824
公開番号（公開出願番号）：特開2002-224948
出願日： 2001年01月26日
公開日（公表日）： 2002年08月13日
要約：

【要約】【課題】ポリッシング後の表面に残留する砥粒、研磨屑等を効率的に洗浄除去し、さらに、除去された該砥粒、研磨屑の再付着を防止する性能を有し、研磨砥粒を含むスラリーの飛散した個化付着物を効率的に除去出来る洗浄剤を提供すること。【解決手段】純水にオキシモノ又はジカルボン酸系化合物を0.1〜50.0重量%、及び界面活性剤を1.0〜50重量%含有せしめて成る組成物を磁気ディスクNi-P基板の研磨液用洗浄剤組成物として使用すること。

請求項（抜粋）：

純水に、オキシモノ又はジカルボン酸系化合物を0.1〜50.0%重量%、及び界面活性剤を1.0%〜50重量%含有せしめて成ることを特徴とする磁気ディスクNi-P基板の研磨液用洗浄剤組成物。

IPC (6件)：

B24B 37/00 ,  C11D 1/04 ,  C11D 3/04 ,  C11D 3/20 ,  C11D 3/30 ,  C11D 10/02

FI (6件)：

B24B 37/00 H ,  C11D 1/04 ,  C11D 3/04 ,  C11D 3/20 ,  C11D 3/30 ,  C11D 10/02

Fターム (22件)：

3C058CA01 ,  3C058CB02 ,  3C058CB03 ,  3C058CB10 ,  3C058DA02 ,  3C058DA17 ,  4H003AB03 ,  4H003AB27 ,  4H003AB31 ,  4H003AB34 ,  4H003AB46 ,  4H003AC03 ,  4H003AC08 ,  4H003AC13 ,  4H003DA15 ,  4H003DB01 ,  4H003EA21 ,  4H003EB08 ,  4H003EB14 ,  4H003ED02 ,  4H003FA15 ,  4H003FA21

引用特許：

審査官引用 (8件)

• 電子材料用基板洗浄液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-112882   出願人：関東化学株式会社
• 特開平2-246115
  
• 研削装置およびウエハの研削方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-054497   出願人：株式会社岡本工作機械製作所
• 研磨方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-024944   出願人：ソニー株式会社
• 洗浄剤組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-090315   出願人：旭化成工業株式会社
• ガラス基板の鏡面仕上げ方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-187208   出願人：日本ミクロコーティング株式会社
• 配線形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-107546   出願人：株式会社日立製作所
• 特開平2-246115