特許
J-GLOBAL ID：200903014446079634

露光装置

発明者：
谷口 哲夫

谷口 哲夫 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-299775
公開番号（公開出願番号）：特開平11-135400
出願日： 1997年10月31日
公開日（公表日）： 1999年05月21日
要約：
【要約】【課題】 露光光の状態、又は結像特性を計測する機能を維持した上で、レチクル、又はウエハを位置決めするためのステージを小型化する。【解決手段】 定盤13上にX方向、Y方向に移動自在に配置されたウエハステージWST上にウエハWが載置され、ウエハW上の露光領域12内にレチクルのパターン像が露光され、レチクル及びウエハWをY方向に走査することで露光が行われる。定盤13上にウエハステージWSTとは独立にX方向、Y方向に移動自在に計測用ステージ14が配置され、計測用ステージ14上に照射量モニタ18、照度むらセンサ19、及びスリットが形成された測定板20を含む空間像検出系が設置されている。ウエハステージWSTは露光に必要な最小限の機能を備えればよいため、ウエハステージWSTが小型化、軽量化できる。
請求項（抜粋）：
マスクに形成されたパターンを露光ビームを用いて基板上に転写する露光装置において、前記マスクと前記基板との何れか一方を保持して所定の領域を移動する第1のステージと、前記第1のステージとは独立した第2のステージと、該第2のステージに取り付けられて前記露光ビームの状態を計測する計測装置と、を備えたことを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (4件)：
H01L 21/30 516 B ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 C ,  H01L 21/30 518
引用特許：
審査官引用 (7件)
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