化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 青山正和 , 鈴木三義 , 柳井則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-124223
公開番号（公開出願番号）：特開2005-308977
出願日： 2004年04月20日
公開日（公表日）： 2005年11月04日
要約：

【課題】高温加熱処理時にレジストパターン形状が変形せず、昇華物の発生も少ない、耐熱性に優れたホトレジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)樹脂成分と、(C)放射線の照射により酸成分を発生する化合物と、有機溶剤とを含み、前記(C)成分から発生する酸成分の作用により、アルカリ水溶液に対する溶解性が増大する性質を有する化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物であって、前記(A)成分が、アルカリ可溶性ノボラック樹脂の、全フェノール性水酸基の一部を酸解離性溶解抑制基で保護してなるアルカリ難溶性あるいは不溶性の樹脂に、低分子量体を分別除去する処理を施して得られる樹脂成分(a1)を含むことを特徴とする化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)樹脂成分と、(C)放射線の照射により酸成分を発生する化合物と、有機溶剤とを含み、前記(C)成分から発生する酸成分の作用により、アルカリ水溶液に対する溶解性が増大する性質を有する化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物であって、前記(A)成分が、アルカリ可溶性ノボラック樹脂の、全フェノール性水酸基の一部を酸解離性溶解抑制基で保護してなるアルカリ難溶性あるいは不溶性の樹脂に、低分子量体を分別除去する処理を施して得られる樹脂成分(a1)を含むことを特徴とする化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F7/039 , C08G8/28 , G03F7/023 , H01L21/027

FI (4件)：

G03F7/039 601 , C08G8/28 Z , G03F7/023 511 , H01L21/30 502R

Fターム (22件)：

2H025AA03 , 2H025AA10 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB29 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025CB56 , 2H025FA17 , 4J033CA20 , 4J033CA32 , 4J033CA42 , 4J033CB18 , 4J033CD05 , 4J033HA12 , 4J033HA28 , 4J033HB10

引用特許：

出願人引用 (4件)

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いた多層レジスト材料
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-250712 出願人：東京応化工業株式会社
ポジ型感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-303512 出願人：富士写真フイルム株式会社
ポジ型感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-018793 出願人：富士写真フイルム株式会社

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審査官引用 (4件)

ポジ型ホトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-154644 出願人：東京応化工業株式会社
高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-272782 出願人：信越化学工業株式会社
化学増幅型ポジ型液晶素子用レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-238039 出願人：東京応化工業株式会社

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