特許
J-GLOBAL ID：200903014768689454

グレーティングの形成方法及び光変調装置の製造方法

発明者：
戒能 俊邦

戒能 俊邦 について

, 
服部 俊明

服部 俊明 について


出願人/特許権者：
三菱レイヨン株式会社

三菱レイヨン株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-260287
公開番号（公開出願番号）：特開2000-089186
出願日： 1998年09月14日
公開日（公表日）： 2000年03月31日
要約：
【要約】【課題】 簡便な方法で屈折率変調構造を構築したナノ秒レベルの光変調動作が可能なグレーティングの形成方法及びグレーティング結合型光変調装置の製造方法を提供する。【解決手段】 電気光学特性を有する高分子薄膜を形成する第一の工程と、二光束に分割されたレーザー光を当該高分子薄膜に同時照射する第二の工程と、二光束に分割されたレーザー光の同時照射によって当該高分子薄膜をフォトブリーチングし、グレーティングを構築する第三の工程からなることを特徴とするグレーティングの形成方法。及びこの方法によってコア層の上部にグレーティングを形成することを特徴とするグレーティング結合型光変調装置の製造方法。
請求項（抜粋）：
電気光学特性を有する高分子薄膜を形成する第一の工程と、二光束に分割されたレーザー光を当該高分子薄膜に同時照射する第二の工程と、二光束に分割されたレーザー光の同時照射によって当該高分子薄膜をフォトブリーチングし、グレーティングを構築する第三の工程からなることを特徴とするグレーティングの形成方法。
IPC (2件)：
G02F 1/065 ,  G02B 6/122
FI (2件)：
G02F 1/01 601 C ,  G02B 6/12 A
Fターム (20件)：
2H047KA03 ,  2H047KA12 ,  2H047LA02 ,  2H047MA01 ,  2H047NA02 ,  2H047PA02 ,  2H047PA30 ,  2H047QA05 ,  2H047TA11 ,  2H079AA02 ,  2H079AA12 ,  2H079BA01 ,  2H079CA01 ,  2H079CA04 ,  2H079DA07 ,  2H079DA22 ,  2H079EA05 ,  2H079EB04 ,  2H079HA15 ,  2H079KA08
引用特許：
審査官引用 (9件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)

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