特許
J-GLOBAL ID:200903015079450149

感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-283291
公開番号(公開出願番号):特開2005-049720
出願日: 2003年07月31日
公開日(公表日): 2005年02月24日
要約:
【課題】 高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性組成物、電子部品の層間絶縁膜およびマイクロレンズの提供。 【解決手段】 [A](a1)不飽和カルボン酸および/または不飽和カルボン酸無水物、(a2)エポキシ基含有不飽和化合物、(a3)水酸基またはカルボキシル基を含有するマレイミド系モノマー、および(a4)(a1)、(a2)および(a3)以外の不飽和化合物の共重合体、ならびに [B]1,2-ナフトキノンジアジド化合物、を含有する感放射線性組成物。それから製造された層間絶縁膜およびマイクロレンズ。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
[A](a1)不飽和カルボン酸および/または不飽和カルボン酸無水物、 (a2)エポキシ基含有不飽和化合物、 (a3)水酸基またはカルボキシル基を含有するマレイミド系モノマー、および (a4)(a1)、(a2)および(a3)以外の不飽和化合物の共重合体、ならびに [B]1,2-キノンジアジド化合物 を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
IPC (7件):
G03F7/033 ,  C08F222/40 ,  G02B1/04 ,  G02B3/00 ,  G03F7/022 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027
FI (7件):
G03F7/033 ,  C08F222/40 ,  G02B1/04 ,  G02B3/00 A ,  G03F7/022 ,  G03F7/40 501 ,  H01L21/30 502R
Fターム (34件):
2H025AA01 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AA14 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CB53 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H096AA25 ,  2H096AA26 ,  2H096AA27 ,  2H096AA28 ,  2H096BA10 ,  2H096BA20 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  2H096JA04 ,  4J100AM47P ,  4J100BA03P ,  4J100BA16P ,  4J100BC04P ,  4J100BC43P ,  4J100CA06 ,  4J100JA38
引用特許:
出願人引用 (5件)
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