特許
J-GLOBAL ID:200903015101048350

有機TFTおよびその作製方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 伊東 忠彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-053595
公開番号(公開出願番号):特開2003-258260
出願日: 2002年02月28日
公開日(公表日): 2003年09月12日
要約:
【要約】【課題】 プラスチック基板上に形成され、高いゲインを有する有機TFTを提供する。【解決手段】 有機TFT10は、プラスチック基板12の上に、順次、ブロック層14、ゲート電極16、ゲート絶縁膜18および有機半導体20を有し、さらに、有機半導体20の上に対向、離間してソース電極22およびドレイン電極24を有する。ブロック層14は二酸化珪素で形成される。ゲート電極16はタンタルで形成される。ゲート絶縁膜18はゲート電極16を陽極酸化して、高い比誘電率を有する薄厚で緻密な膜に形成される。有機半導体20は材料としてペンタセンを用い、キャリアの移動度の大きなチャネルが形成される。
請求項(抜粋):
プラスチック基板上に形成され、ゲート電極、ゲート絶縁膜、有機半導体ならびにソース電極およびドレイン電極を有する有機TFTにおいて、該ゲート絶縁膜が、該ゲート電極の表面を陽極酸化して形成された金属酸化膜からなることを特徴とする有機TFT。
IPC (5件):
H01L 29/786 ,  H01L 21/28 301 ,  H01L 21/316 ,  H01L 21/336 ,  H01L 51/00
FI (8件):
H01L 21/28 301 R ,  H01L 21/316 T ,  H01L 29/78 618 B ,  H01L 29/78 617 W ,  H01L 29/78 617 L ,  H01L 29/78 618 A ,  H01L 29/78 626 C ,  H01L 29/28
Fターム (38件):
4M104AA09 ,  4M104BB02 ,  4M104BB13 ,  4M104BB14 ,  4M104BB16 ,  4M104BB17 ,  4M104CC05 ,  4M104DD37 ,  4M104DD89 ,  4M104EE03 ,  4M104GG09 ,  5F058BC03 ,  5F058BF70 ,  5F058BJ01 ,  5F110AA07 ,  5F110AA17 ,  5F110BB01 ,  5F110CC03 ,  5F110DD01 ,  5F110DD13 ,  5F110DD18 ,  5F110EE03 ,  5F110EE04 ,  5F110EE14 ,  5F110EE44 ,  5F110FF01 ,  5F110FF05 ,  5F110FF09 ,  5F110FF24 ,  5F110FF36 ,  5F110GG05 ,  5F110GG06 ,  5F110GG25 ,  5F110GG28 ,  5F110GG29 ,  5F110GG42 ,  5F110HK02 ,  5F110HK32
引用特許:
審査官引用 (7件)
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