特許
J-GLOBAL ID:200903029240664147
欠陥検査装置および欠陥検査方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (6件):
鈴江 武彦
, 河野 哲
, 中村 誠
, 蔵田 昌俊
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-064054
公開番号(公開出願番号):特開2005-252166
出願日: 2004年03月08日
公開日(公表日): 2005年09月15日
要約:
【課題】 欠陥検出感度の向上を図りうる欠陥検査装置を実現すること。【解決手段】 欠陥検査装置のリサイズ・コーナー丸め回路18は、展開データにFIRフィルタ処理を施すFIRフィルタ回路18fと、FIRフィルタ処理を施した展開データを再構築するデータ展開回路18rとを備えている。データ展開回路18rは、画素データと閾値(Th1,Th2)とを比較し、Th1以下の値を有する画素データを値が0の画素データに置換し、Th2以上の値を有する画素データを値が255の画素データに置換し、Th1よりも大きくかつTh2よりも小さい値を有する画素データに関しては、D’’=(D’-Th1)×255/(Th2-Th1)、D’は置換前の値、D’’は置換後の値に従って置換する。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
パターンを備えた被検査試料に光を照射する光照射手段と、
前記被検査試料で反射した前記光または前記被検査試料を透過した前記光の強度に基づいて、前記パターンの測定パターンデータを取得する取得手段と、
前記被検査試料の設計データから前記測定パターンデータに対応した複数の画素データを含む展開データを展開する展開手段と、
前記展開データに有限インパルス応答フィルタ処理を施すフィルタ処理手段と、
前記有限インパルス応答フィルタ処理を施した前記展開データに関し、第1の基準値以下の値を有する画素データを第1の画素データに置換し、前記第1の基準値よりも大きい第2の基準値以上の値を有する画素データを前記第1の画素データよりも値が大きい第2の画素データに置換し、前記第1の基準値よりも大きくかつ前記第2の基準値よりも小さい値を有する画素データに関しては、第1の画素データの値と第2の画素データの値との中間の値の画素データであって、かつ、値が大きい画素データほど、より値が大きな画素データに置換する再構築手段と、
前記再構築した前記展開データに光学系を模したぼかしフィルタ処理を施し、基準パターンデータを作成する基準データ作成手段と、
前記基準パターンデータと前記測定パターンデータとを比較して、前記被検査試料の欠陥を検出する欠陥検出手段と
を具備してなることを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (8件):
H01L21/66
, G01B11/24
, G01N21/956
, G03F1/08
, G06T1/00
, G06T5/20
, G06T7/00
, H01L21/027
FI (8件):
H01L21/66 J
, G01N21/956 A
, G03F1/08 S
, G06T1/00 305A
, G06T5/20 A
, G06T7/00 300Z
, H01L21/30 502V
, G01B11/24 F
Fターム (56件):
2F065AA49
, 2F065AA56
, 2F065BB02
, 2F065CC18
, 2F065CC25
, 2F065FF02
, 2F065FF41
, 2F065HH13
, 2F065HH15
, 2F065JJ02
, 2F065JJ03
, 2F065JJ09
, 2F065JJ18
, 2F065JJ25
, 2F065JJ26
, 2F065PP12
, 2F065PP13
, 2F065QQ03
, 2F065QQ08
, 2F065QQ32
, 2F065QQ33
, 2F065QQ39
, 2F065RR09
, 2G051AA51
, 2G051AB02
, 2G051CA04
, 2G051CB01
, 2G051DA07
, 2G051DA08
, 2G051EA11
, 2G051EA16
, 2G051EB01
, 2G051ED03
, 2G051ED08
, 2G051ED21
, 2H095BD04
, 2H095BD25
, 2H095BD28
, 4M106AA01
, 4M106CA39
, 4M106DB04
, 4M106DJ11
, 4M106DJ20
, 5B057AA03
, 5B057CA12
, 5B057CB12
, 5B057CE04
, 5B057CE06
, 5B057CH08
, 5B057DA03
, 5B057DA13
, 5B057DB02
, 5B057DC33
, 5L096BA03
, 5L096HA07
, 5L096KA13
引用特許:
出願人引用 (9件)
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パターン検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-226074
出願人:株式会社東芝
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パターン検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-010050
出願人:株式会社トプコン, 株式会社東芝
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画像の欠陥検出装置及びその欠陥検出方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-151290
出願人:日本電気株式会社
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パターン検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-219878
出願人:株式会社東芝
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欠陥検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-089957
出願人:株式会社東芝
-
パターン欠陥検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-095305
出願人:株式会社東芝
-
欠陥検出装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-356031
出願人:三菱レイヨン株式会社
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パターン欠陥検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-133533
出願人:株式会社トプコン, 株式会社東芝
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画像パターン検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-066786
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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