特許
J-GLOBAL ID:200903016279113526
回転中心算出方法およびこの方法を用いたワーク位置決め装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鈴木 由充
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-232059
公開番号(公開出願番号):特開2006-049755
出願日: 2004年08月09日
公開日(公表日): 2006年02月16日
要約:
【課題】 ステージの回転中心の座標を簡易な方法で精度良く求めることにより、ワークの位置決めの精度を向上する。【解決手段】 回転機構を具備するステージ上にモデルのワークを搬入し、2台のカメラの視野R1,R2に、それぞれワークの対角関係にある位置決めマークが入るようにワークの位置を調整する。この状態下で1回目の撮像を行った後、各マークが視野R1,R2から出ない範囲でステージを回転させ、2回目の撮像を実行する。つぎに、2回の撮像で得た各画像から各マークの位置を示す点a1,a2,b1,b2の座標を計測し、これらの座標から求めた各マークの移動量とあらかじめ入力されたマーク間の距離Lとを用いてステージの回転角度dTを算出する。さらに、回転角度dTと点a1,a2,b1,b2の座標とを用いてステージの回転中心Cの座標(cx,cy)を算出する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
表面に複数の位置決めマークが設けられたワークを回転機構を具備するステージ上に設置するとともに、少なくとも対角関係にある2個の位置決めマークの基準位置に向けてそれぞれ撮像手段を設置し、各撮像手段により得た画像を用いて各位置決めマークがそれぞれ前記基準位置に合うように前記ステージの動作を制御するワーク位置決め処理において、前記ワークの回転ずれの補正に必要なステージの回転中心の座標を求める方法であって、
前記ワーク上の位置決めマーク間の距離を特定するデータを入力するステップAと、モデルのワークを前記ステージ上に設置して、各撮像手段にそれぞれ対応する位置決めマークを撮像させるステップBと、前記各位置決めマークが対応する撮像手段の視野から出ない範囲で前記ステージを回転させ、各撮像手段に位置決めマークを再度撮像させるステップCとを実行した後、前記ステップB,Cで得た画像と前記位置決めマーク間の距離とを用いて、前記ステージの回転中心の座標を算出することを特徴とする回転中心算出方法。
IPC (2件):
FI (2件):
H01L21/68 F
, G01B11/00 D
Fターム (26件):
2F065AA17
, 2F065BB27
, 2F065CC00
, 2F065CC25
, 2F065DD03
, 2F065EE00
, 2F065FF04
, 2F065JJ03
, 2F065JJ05
, 2F065JJ19
, 2F065JJ26
, 2F065MM02
, 2F065PP12
, 2F065QQ03
, 2F065QQ24
, 2F065SS13
, 5F031CA05
, 5F031HA53
, 5F031JA04
, 5F031JA15
, 5F031JA29
, 5F031JA32
, 5F031JA50
, 5F031JA51
, 5F031KA08
, 5F031KA11
引用特許:
出願人引用 (1件)
-
液晶基板の検査方法及びその装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-354332
出願人:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロンエフイー株式会社
審査官引用 (5件)
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