特許
J-GLOBAL ID:200903016319250173
蛍光X線分析装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
林 敬之助
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-073852
公開番号(公開出願番号):特開2000-266702
出願日: 1999年03月18日
公開日(公表日): 2000年09月29日
要約:
【要約】【課題】 蛍光X線分析装置において、試料が微小な結晶の混合物であっても回折X線が除去出来るようにする。【解決手段】 試料とX線検出器の間のX線通路中に、X線光束のうち平行成分だけを検出できる移動可能なコリメータ機構を設け、同一試料に対してコリメータ機構を挿入した場合と挿入しない場合のスペクトルを各々測定するようにした
請求項(抜粋):
一次X線を発生するX線源と、そのX線を照射する測定試料を固定する試料台と、試料から発生する二次X線を検出する検出器とからなる蛍光X線分析装置において、X線源から照射されるX線光束の中心線が試料台平面と交わる交点と、検出器の検出領域の中心点とを結ぶ線に平行な二次X線のみを取り出すコリメータ機構を設け、コリメータ機構は、測定試料と検出器の間のX線通路中に、出し入れ可能であることを特徴とする蛍光X線分析装置。
IPC (2件):
FI (2件):
G01N 23/223
, G21K 1/02 C
Fターム (11件):
2G001AA01
, 2G001BA04
, 2G001BA18
, 2G001BA30
, 2G001CA01
, 2G001DA03
, 2G001DA10
, 2G001FA17
, 2G001GA01
, 2G001SA02
, 2G001SA30
引用特許:
審査官引用 (7件)
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X線分析装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-207802
出願人:株式会社日立製作所
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X線導管光学系による薄膜X線回折装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-200085
出願人:科学技術庁無機材質研究所長
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X線分析装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-312673
出願人:理学電機工業株式会社
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