特許
J-GLOBAL ID：200903016536463371
熱処理装置および熱処理方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岸本 瑛之助 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-011872
公開番号（公開出願番号）：特開2002-213882
出願日： 2001年01月19日
公開日（公表日）： 2002年07月31日
要約：
【要約】【課題】 不活性ガスの使用量が少なく迅速かつ再現性よく容易に低酸素濃度で熱処理できる熱処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】 熱処理室1内で被処理物Pを熱処理する熱処理装置である。熱処理室1内を真空引きする真空引手段6と、熱処理室1の被処理物搬入出口を開閉する扉5と、板状被処理物Pが載置されるとともに載置された被処理物Pを加熱、冷却する被処理物熱処理板4と、熱処理板4上の被処理物Pを輻射加熱する輻射加熱装置3とを備え、熱処理板4の内部に1または2以上の流路が設けられ、輻射加熱装置3および熱処理板4内に異なる温度の熱媒体を流して、熱処理板4上に載置された被処理物Pに熱処理を施す。
請求項（抜粋）：
熱処理室内で被処理物を熱処理する熱処理装置であって、熱処理室内を真空引きする真空引手段と、熱処理室の被処理物搬入出口を開閉する扉と、板状被処理物が載置されるとともに載置された被処理物を加熱、冷却する被処理物熱処理板と、熱処理板上の被処理物を輻射加熱する輻射加熱装置とを備え、熱処理板の内部に1または2以上の流路が設けられ、輻射加熱装置と熱処理板内に異なる温度の熱媒体を流すこととで熱処理板上に載置された被処理物に熱処理を施すことを特徴とする熱処理装置。
IPC (5件)：
F27D 7/06
, B23K 1/008
, H01L 21/26
, H01L 21/60
, H05K 3/34 507
F27D 7/06 A
, B23K 1/008 B
, H05K 3/34 507 H
, H01L 21/26 G
, H01L 21/92 604 H
4K063AA05
, 4K063AA16
, 4K063BA12
, 4K063CA01
, 4K063CA03
, 4K063CA04
, 4K063DA05
, 4K063DA13
, 4K063DA17
, 4K063DA19
, 5E319CC33
, 5E319GG15
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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