特許
J-GLOBAL ID：200903016940014432

FPD用保護膜の製造方法及び保護膜並びにこれを用いたFPD

発明者：
桜井 英章

桜井 英章 について

, 
豊口 銀二郎

豊口 銀二郎 について

, 
黒光 祥郎

黒光 祥郎 について


出願人/特許権者：
三菱マテリアル株式会社

三菱マテリアル株式会社 について


代理人 (7件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  江口 昭彦 ,  杉浦 秀幸 ,  村山 靖彦 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-067068
公開番号（公開出願番号）：特開2004-281081
出願日： 2003年03月12日
公開日（公表日）： 2004年10月07日
要約：
【課題】膜本体のMgO等が大気中のCO2ガスやH2Oガスと反応することにより、MgO等のFPDに有害なMgCO3やMg(OH)2等へ変質してしまうことを防止する。【解決手段】基板の表面にMgO、CaO、SrO、BaO、アルカリ土類複合酸化物もしくは希土類酸化物、またはアルカリ土類酸化物および希土類酸化物の複合酸化物のいずれかにより形成された膜本体を形成する工程と、膜本体をフッ素プラズマにて表面処理することにより膜本体の表面にフッ化物層を形成する工程と、を有する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
基板の表面にMgO、CaO、SrO、BaO、アルカリ土類複合酸化物もしくは希土類酸化物、またはアルカリ土類酸化物および希土類酸化物の複合酸化物のいずれかにより形成された膜本体を形成する工程と、 前記膜本体をフッ素プラズマにて表面処理することにより前記膜本体の表面にフッ化物層を形成する工程と、を有することを特徴とするFPD用保護膜の製造方法。
IPC (10件)：
H01J9/02 ,  C23C14/08 ,  C23C14/30 ,  C23C14/34 ,  C23C16/30 ,  C23C16/50 ,  C23C16/511 ,  G02B1/10 ,  G02F1/1333 ,  H01J11/02
FI (12件)：
H01J9/02 F ,  C23C14/08 J ,  C23C14/08 K ,  C23C14/30 Z ,  C23C14/34 N ,  C23C16/30 ,  C23C16/50 ,  C23C16/511 ,  G02F1/1333 ,  G02F1/1333 505 ,  H01J11/02 B ,  G02B1/10 Z
Fターム (38件)：
2H089HA36 ,  2H089JA07 ,  2H089QA07 ,  2H089TA05 ,  2H090HB06X ,  2H090HC03 ,  2H090HC16 ,  2K009CC03 ,  2K009CC26 ,  2K009DD02 ,  2K009DD04 ,  2K009EE00 ,  4K029BA43 ,  4K029BA50 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029CA05 ,  4K029DB20 ,  4K030AA04 ,  4K030BA35 ,  4K030DA08 ,  4K030FA01 ,  4K030HA04 ,  4K030JA09 ,  4K030LA01 ,  4K030LA18 ,  5C027AA07 ,  5C040FA01 ,  5C040FA04 ,  5C040FA09 ,  5C040GB03 ,  5C040GB14 ,  5C040GE02 ,  5C040GE08 ,  5C040GE09 ,  5C040JA07 ,  5C040JA22 ,  5C040MA10
引用特許：
審査官引用 (5件)
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