放射線感受性樹脂組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萩野平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-305074
公開番号（公開出願番号）：特開平7-230166
出願日： 1994年12月08日
公開日（公表日）： 1995年08月29日
要約：

【要約】【目的】高解像力でかつ上記「膜厚依存性」の小さい、現像ラチチュードが広く、現像残渣が発生しにくい、耐熱性が高くドライエツチングに対する耐性の高い、放射線感受性樹脂組成物を提供することにある。【構成】放射線感受性化合物がフェノ-ル性水酸基を3個及び/または4個有する水不溶性アルカリ可溶性低分子化合物のナフトキノンジアジドスルフォン酸ジエステル化合物(A)とフェノ-ル性水酸基を5〜7個有する水不溶性アルカリ可溶性低分子化合物のナフトキノンジアジドスルフォン酸エステル化合物(B)との混合物を該放射線感受性化合物の30%以上含有する。

請求項（抜粋）：

水不溶性アルカリ可溶性樹脂、水不溶性アルカリ可溶性低分子化合物及び放射線感受性化合物を含有する放射線感受性樹脂組成物に於いて、該放射線感受性化合物がフェノ-ル性水酸基を3個及び/または4個有する水不溶性アルカリ可溶性低分子化合物のナフトキノンジアジドスルフォン酸ジエステル化合物(A)とフェノ-ル性水酸基を5〜7個有する水不溶性アルカリ可溶性低分子化合物のナフトキノンジアジドスルフォン酸エステル化合物(B)との混合物を該放射線感受性化合物の30%以上含有することを特徴とする放射線感受性樹脂組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/022 , G03F 7/023 501 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開平4-122938
ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-219804 出願人：住友化学工業株式会社
特開平2-103543

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