特許
J-GLOBAL ID:200903017387458633
ガス供給制御装置
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
富澤 孝 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-296984
公開番号(公開出願番号):特開2000-122725
出願日: 1998年10月19日
公開日(公表日): 2000年04月28日
要約:
【要約】【課題】 固体ソースから昇華させた材料ガスの供給量を制御することができるガス供給制御装置を提供すること。また、材料ガスの供給量を制御する際において、絞り部の有効断面積の変化を補うことができるガス供給制御装置を提供すること。また、絞り部を亜音速流で通過する材料ガスの供給量を制御することができるガス供給制御装置を提供すること。【解決手段】 シリンダ32で固体ソース50から昇華させた材料ガスを、オリフィス33を介して、CVD装置30に供給する。そして、上流圧力センサ34で検出されるオリフィス33の上流圧力P1と、上流温度センサ35で検出されるオリフィス33の上流温度T1に基づいて、オリフィス33を音速流で通過する材料ガスの流量Qを算出し、また、オリフィス33の上流圧力P1を上流圧力制御バルブ21で調節することにより、オリフィス33を音速流で通過する材料ガスの流量Qを設定値に保つ。
請求項(抜粋):
材料ガスが音速流で一定量連続して通過する絞り部と、前記絞り部の上流圧力を調節する上流圧力制御バルブと、前記絞り部の上流圧力を検出する上流圧力センサと、前記絞り部の上流温度を検出する上流温度センサとを有し、前記材料ガスの供給時における前記上流圧力センサと前記上流温度センサの各々の検出結果に基づいて、前記絞り部を通過する前記材料ガスの流量を算出する一方、前記絞り部の上流圧力を前記上流圧力制御バルブで調節して、前記絞り部を通過する前記材料ガスの流量を設定値に保つことにより、前記材料ガスの供給量を制御するガス供給制御装置において、前記材料ガスは、固体ソースを昇華させたことにより発生したものであることを特徴とするガス供給制御装置。
IPC (4件):
G05D 7/06
, B01J 7/00
, C23C 16/455
, H01L 21/31
FI (4件):
G05D 7/06 Z
, B01J 7/00 Z
, C23C 16/44 D
, H01L 21/31 F
Fターム (35件):
4G068DA04
, 4G068DB06
, 4G068DB30
, 4G068DC04
, 4G068DC06
, 4K030CA04
, 4K030CA12
, 4K030EA01
, 4K030JA05
, 4K030KA39
, 4K030KA45
, 4K030LA15
, 5F045AA06
, 5F045EC07
, 5F045EE02
, 5F045EE04
, 5F045EE12
, 5F045EE17
, 5F045GB05
, 5F045GB06
, 5F045GB17
, 5H307AA20
, 5H307BB01
, 5H307DD08
, 5H307EE02
, 5H307EE08
, 5H307EE12
, 5H307EE36
, 5H307ES06
, 5H307FF12
, 5H307FF15
, 5H307GG03
, 5H307GG11
, 5H307HH04
, 5H307JJ01
引用特許:
審査官引用 (9件)
-
圧力式流量制御装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-212330
出願人:大見忠弘, 株式会社フジキン
-
CVD装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-153427
出願人:日電アネルバ株式会社
-
臨界ノズルの簡易校正装置及びその方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-077142
出願人:工業技術院長, 株式会社山田製作所
-
特開昭62-192810
-
特開平4-150938
-
半導体製造装置および半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-082266
出願人:株式会社日立製作所
-
流体流量制御装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-044930
出願人:三菱重工業株式会社
-
特開昭55-013411
-
圧力式流量制御装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-144722
出願人:株式会社フジキン
全件表示
前のページに戻る