特許
J-GLOBAL ID：200903017391444787
プラズマ処理装置及びその電極構造
発明者：
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-250898
公開番号（公開出願番号）：特開2005-129493
出願日： 2004年08月30日
公開日（公表日）： 2005年05月19日
要約：
【課題】大面積の被処理物用のプラズマ処理装置において、電極のクーロン力による撓み量を低減するとともに表面処理の均一性を向上させる。【解決手段】プラズマ処理装置の電極構造は、左右にそれぞれ延びるとともに前後に互いに対峙する一対の電極列31X,32Xからなる。各電極列は、左右に並べられた複数の電極部材31A〜32Bにて構成され、左右方向の実質的に同じ位置に配置された一方の電極列と他方の電極列の電極部材どうしが、互いに逆の極性を有して互いの対向面の間に列間部分隙間33pを形成している。さらに、各電極列の隣り合う電極部材どうしの極性が互いに逆になるとともにこれらの間に列内隙間33qが斜めに形成されている。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
処理ガスを放電空間でプラズマ化して吹出し、被処理物に当てることによりプラズマ処理を行なう装置における前記放電空間を形成する電極構造であって、
一方向に並べられた複数の電極部材からなる第1電極列と、
この第1電極列と平行に並べられた他の複数の電極部材からなる第2電極列と、を含み、
前記並び方向の実質的に同じ位置に配置された第1、第2電極列の電極部材どうしが、互いに逆の極性を有して互いの間に前記放電空間の一部分となる列間部分隙間を構成し、第1、第2電極列どうしの間に、前記列間部分隙間を一列に複数連ねてなる列間隙間が形成され、
さらに、前記第1電極列および/または第2電極列において前記並び方向に隣り合う電極部材どうしが、互いに逆の極性を有するとともに、これら隣り合う電極部材どうしのうちの一方が、前記列間隙間を形成する第1面と、この第1面と鈍角をなす第2面を有し、他方の電極部材が、前記第1面と略面一をなして前記列間隙間を形成する第3面と、この第3面と鋭角をなす第4面を有し、前記第2面と第4面との間に、前記放電空間の他の一部分となる列内隙間が前記列間隙間に対し斜めに形成されていることを特徴とするプラズマ処理装置の電極構造。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H05H1/24
, H01L21/304 645C
出願人引用 (1件)
-
液晶用ガラス基板の洗浄方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2000-346864
出願人：積水化学工業株式会社, 株式会社ケミトロニクス
審査官引用 (6件)
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