特許
J-GLOBAL ID：200903017834551212

フィルタ・ウィンドウ、リソグラフ投影装置、フィルタ・ウィンドウの製造方法、デバイスの製造方法、及びそれらによって製造されたデバイス

発明者：
ラルフ クルト

ラルフ クルト について

, 
レフィヌス ピーター バッケル

レフィヌス ピーター バッケル について


出願人/特許権者：
エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ

エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ について


代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  森 徹 ,  岩本 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-215962
公開番号（公開出願番号）：特開2005-043895
出願日： 2004年07月23日
公開日（公表日）： 2005年02月17日
要約：
【課題】フィルタ・ウィンドウ、リソグラフ投影装置、フィルタ・ウィンドウの製造方法、デバイスの製造方法、及びそれらによって製造されたデバイスを提供すること。【解決手段】本発明は、AlN、Ru、Ir、Au、SiN、Rh、Cの少なくとも1種を含む第1層を含むことを特徴とするペリクルと、ペリクルを支持するワイヤ構造とを含むEUVリソグラフ用フィルタ・ウィンドウに関する。これらの材料を有するペリクルは最低の酸化速度を有すると共にEUV吸収が非常に低い。ペリクルの厚さは30nm〜100nmであることが好ましい。それらの薄いペリクルのEUV放射の吸収は知られたフィルタ・ウィンドウに等しい、すなわち波長13.5nmで約50%であることは容易に確認できるが、本発明によるペリクルの酸化ははるかに少ない。フィルタ・ウィンドウは、例えば投影光学系ボックスと装置のウェーハ貯蔵室を分離するのに使用でき、またはレチクルを粒子汚染から遮蔽することができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ペリクルと、 前記ペリクルを支持するためのワイヤ構造とを含み、 前記ペリクルが、AlN、Ru、Ir、Au、SiN、Rh、Cの少なくとも1種を含む第1層を含むことを特徴とする、EUVリソグラフ用フィルタ・ウィンドウ。
IPC (2件)：
G03F1/14 ,  H01L21/027
FI (2件)：
G03F1/14 J ,  H01L21/30 531M
Fターム (6件)：
2H095BA10 ,  2H095BC32 ,  2H095BC33 ,  5F046CB17 ,  5F046GD05 ,  5F046GD07
引用特許：
審査官引用 (9件)
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