特許
J-GLOBAL ID：200903018066232419

化学増幅型ポジ型レジスト組成物

発明者：
難波 克彦

難波 克彦 について

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末次 益実

末次 益実 について

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落合 鋼志郎

落合 鋼志郎 について


出願人/特許権者：
住友化学工業株式会社

住友化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-078355
公開番号（公開出願番号）：特開2003-280198
出願日： 2002年03月20日
公開日（公表日）： 2003年10月02日
要約：
【要約】【課題】残膜率を落とさずに、感度、解像度、特に孤立解像度などの基本的な性能を上げることができる化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)それ自体ではアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用により解裂しうる保護基を有し、保護基が解裂した後はアルカリ水溶液に可溶性になるフェノール骨格を有する樹脂、(B)ポリ(p-ヒドロキシスチレン)のヒドロキシル基の一部を、ピバロイル基で保護した樹脂、並びに(C)酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
請求項（抜粋）：
(A)それ自体ではアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用により解裂しうる保護基を有し、保護基が解裂した後はアルカリ水溶液に可溶性になるフェノール骨格を有する樹脂、(B)ポリ(p-ヒドロキシスチレン)のヒドロキシル基の一部を、ピバロイル基で保護した樹脂、並びに(C)酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 8/00 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 8/00 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (26件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CB16 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07P ,  4J100BA02H ,  4J100BA03P ,  4J100BA15H ,  4J100CA01 ,  4J100DA38 ,  4J100DA39 ,  4J100HA11 ,  4J100HA19 ,  4J100HA61 ,  4J100HC27 ,  4J100HC33 ,  4J100JA37
引用特許：
審査官引用 (9件)
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