特許
J-GLOBAL ID：200903018152894599
レーザモジュール及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-101714
公開番号（公開出願番号）：特開2003-298170
出願日： 2002年04月03日
公開日（公表日）： 2003年10月17日
要約：
【要約】【課題】レーザ特性の劣化を効果的に抑制し、信頼性の高いレーザモジュールと、そのレーザモジュールを製造する製造方法とを提供する。【解決手段】封止体積中の有機系接着剤の使用量を1.0g/ml以下とすることにより、脱気処理を行って接着剤からのアウトガス成分の飽和濃度を1000ppm未満とすることができる。これにより、アウトガス成分がレーザ光により分解されて発生する分解物の量が減少し、モジュールの劣化が顕著に抑制される。即ち、レーザモジュールの信頼性が向上し、長期間高出力を維持することができる。
請求項（抜粋）：
350〜450nmの波長範囲のレーザ光を出射する半導体レーザと、内部に固形有機物から発生した有機ガス成分の濃度が1000ppm未満である封止雰囲気で満たされた封止空間を備え、該空間内に前記半導体レーザを気密封止した気密封止部材と、を含むレーザモジュール。
IPC (3件)：
H01S 5/022
, G02B 6/42
, H01L 23/20
H01S 5/022
, G02B 6/42
, H01L 23/20
2H037BA03
, 2H037BA05
, 2H037CA09
, 2H037CA15
, 2H037CA21
, 2H037DA36
, 5F073AB28
, 5F073CA01
, 5F073EA28
, 5F073FA06
, 5F073FA22
, 5F073FA30
