特許
J-GLOBAL ID：200903018804830733

層析出装置および層析出装置を運転する方法

発明者：
アレクサンダー ベーレス

アレクサンダー ベーレス について


出願人/特許権者：
オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング

オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング について


代理人 (8件)： 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  杉本 博司 ,  星 公弘 ,  二宮 浩康 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト ,  ラインハルト・アインゼル
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-250749
公開番号（公開出願番号）：特開2009-084693
出願日： 2008年09月29日
公開日（公表日）： 2009年04月23日
要約：
【課題】プロセスガスの前反応を減じる層析出装置を提供する。【解決手段】チャンバ(10)が設けられており、該チャンバ(10)が、被覆したい少なくとも1つの基板(13)を受容するための基板キャリア(12)と、隔壁(23)を備えるプロセスガス室(11)とを有しており、前記隔壁(23)が、プロセスガス室(11)の第1のセグメント(21)をプロセスガス室(11)の第2のセグメント(22)から仕切っており、かつ前記少なくとも1つの基板(13)を前記隔壁(23)に対して相対的に運動させる装置(44)が設けられているようにした。【選択図】図1A
請求項（抜粋）：
層析出装置において、 -チャンバ(10)が設けられており、該チャンバ(10)が、 被覆したい少なくとも1つの基板(13)を受容するための基板キャリア(12)と、 隔壁(23)を備えるプロセスガス室(11)とを有しており、前記隔壁(23)が、プロセスガス室(11)の第1のセグメント(21)をプロセスガス室(11)の第2のセグメント(22)から仕切っており、かつ -前記少なくとも1つの基板(13)を前記隔壁(23)に対して相対的に運動させる装置(44)が設けられている ことを特徴とする、層析出装置。
IPC (3件)：
C23C 16/458 ,  C23C 16/455 ,  H01L 21/205
FI (3件)：
C23C16/458 ,  C23C16/455 ,  H01L21/205
Fターム (18件)：
4K030EA03 ,  4K030EA06 ,  4K030EA11 ,  4K030GA06 ,  4K030JA11 ,  4K030KA12 ,  4K030KA46 ,  4K030LA12 ,  5F045AA03 ,  5F045AA08 ,  5F045AB09 ,  5F045AC15 ,  5F045AF01 ,  5F045BB04 ,  5F045DP15 ,  5F045DQ04 ,  5F045EC01 ,  5F045EM10
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (6件)
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