特許
J-GLOBAL ID:200903018843714562

Cu2O薄膜及び太陽電池の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 野口 繁雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-078051
公開番号(公開出願番号):特開2003-282897
出願日: 2002年03月20日
公開日(公表日): 2003年10月03日
要約:
【要約】【課題】 簡便な方法によってCu2O薄膜の欠陥準位を低減する。【解決手段】 洗浄したガラス基板上に反応性スパッタ法によって膜厚約1μmのCu2O薄膜を作製した。このCu2O薄膜を形成した基板をクラウンエーテルシアン溶液に2分間浸漬してCu2O薄膜にシアン処理を施した。その後、Cu2O薄膜を形成した基板を室温でアセトン、エタノール、純水の順に洗浄を行った。このシアン処理を行ったCu2O薄膜とシアン処理を行わなかったCu2O薄膜について、フォトルミネッセンスを測定すると、シアン処理後のCu2O薄膜にはバンド端付近に発光が観測された。
請求項(抜粋):
基板上にCu2O薄膜を成膜した後、前記基板をシアン化合物を含有する溶液に浸漬してCu2O薄膜にシアン処理を施す工程を含むことを特徴とするCu2O薄膜の製造方法。
Fターム (6件):
5F051AA07 ,  5F051CB15 ,  5F051CB30 ,  5F051DA05 ,  5F051FA02 ,  5F051GA02
引用特許:
審査官引用 (8件)
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