特許
J-GLOBAL ID：200903018982947296
パターン形成体の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
山下 昭彦
, 岸本 達人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-361484
公開番号（公開出願番号）：特開2007-165679
出願日： 2005年12月15日
公開日（公表日）： 2007年06月28日
要約：
【課題】本発明は、例えばマイクロレンズ付基板等のパターン形成体を、従来に比べて簡便な方法で得ることができるパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。【解決手段】本発明は、基板、および上記基板上に形成された感光性樹脂層を備えた被転写基板と、表面に凹凸パターンを有するテンプレートとを用い、上記被転写基板の感光性樹脂層と、上記テンプレートの凹凸パターンとを密着させ密着積層体を形成する密着積層体形成工程と、上記密着積層体のテンプレート側から光を照射する露光工程と、上記露光工程後に、上記密着積層体のテンプレートを剥離することにより、凹凸被転写基板を形成し、上記凹凸被転写基板を現像液で現像する現像工程と、を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板、および前記基板上に形成された感光性樹脂層を備えた被転写基板と、表面に凹凸パターンを有するテンプレートとを用い、前記被転写基板の感光性樹脂層と、前記テンプレートの凹凸パターンとを密着させ密着積層体を形成する密着積層体形成工程と、
前記密着積層体のテンプレート側から光を照射する露光工程と、
前記露光工程後に、前記密着積層体のテンプレートを剥離することにより、凹凸被転写基板を形成し、前記凹凸被転写基板を現像液で現像する現像工程と、
を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, B81C 5/00
, G02B 3/00
H01L21/30 502D
, B81C5/00
, G02B3/00 A
出願人引用 (1件)
審査官引用 (6件)
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