特許
J-GLOBAL ID：200903034564252899

光インプリント用スタンパおよびそれを用いた発光装置の製造方法

発明者：
渡辺 健一

渡辺 健一 について


出願人/特許権者：
京セラ株式会社

京セラ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-343736
公開番号（公開出願番号）：特開2007-150053
出願日： 2005年11月29日
公開日（公表日）： 2007年06月14日
要約：
【課題】半導体デバイスの製造工程において、微細な形状の構造体を形成するためのパターン転写技術である光ナノプリント法に関し、基板からスタンパを剥離する工程を高精度かつ容易に行うことができるスタンパおよびこれを用いた製造方法を提供する。【解決手段】紫外線に対して透過率50%以上の透明体からなり、主面に凹部及び凸部を有する光インプリント用スタンパにおいて、前記凸部の少なくとも最表面が紫外線に対して透過率10%以下の不透明部であること。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
紫外線に対して透過率50%以上の透明体からなり、主面に凹部及び凸部を有する光インプリント用スタンパにおいて、前記凸部の少なくとも最表面が紫外線に対して透過率10%以下の不透明部であることを特徴とする光インプリント用スタンパ。
IPC (5件)：
H01L 33/00 ,  B29C 59/02 ,  G11B 7/26 ,  B29C 33/38 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
H01L33/00 C ,  B29C59/02 B ,  G11B7/26 511 ,  B29C33/38 ,  H01L21/30 502D
Fターム (39件)：
4F202AA44 ,  4F202AF01 ,  4F202AH33 ,  4F202AH73 ,  4F202AJ06 ,  4F202AJ09 ,  4F202CA19 ,  4F202CB01 ,  4F202CB29 ,  4F202CD12 ,  4F202CD23 ,  4F209AA36 ,  4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209AJ01 ,  4F209AJ09 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PH02 ,  4F209PH21 ,  4F209PH27 ,  4F209PN03 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  5D121CA01 ,  5D121CA05 ,  5D121CA07 ,  5F041AA03 ,  5F041CA04 ,  5F041CA40 ,  5F041CA77 ,  5F041CA88 ,  5F041CA93 ,  5F046AA28
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (9件)
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