特許
J-GLOBAL ID:200903019318881861

金属イオンの供給装置とその方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 藤谷 修
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-386845
公開番号(公開出願番号):特開2005-146363
出願日: 2003年11月17日
公開日(公表日): 2005年06月09日
要約:
【課題】 効率の高い金属イオンの供給装置とその方法を提供する。【解決手段】 本発明の金属イオンの供給装置では、カソードとアノードと放電ガスを有している。カソードは、両端面に開口する貫通孔を有する筒状形状をしており、イオン化する金属から形成されている。アノードは、筒状又は柱状であり、カソードに対向する端面が平坦である。カソードとアノードはほぼ同軸に位置しており、所定の間隙を有して配置されており、カソードとアノードの間からカソードの貫通孔に至る空間を放電ガスが充たしていることを特徴とする。この金属イオンの供給装置では、アノードとカソード間の電界分布が改善され、効率よく金属イオンが供給される。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
カソードとアノードと放電ガスを有し、 カソードは、両端面に開口する貫通孔を有する筒状形状をしており、イオン化する金属から形成されており、 アノードは、筒状又は柱状であり、カソードに対向する端面が平坦であり、 カソードとアノードはほぼ同軸に位置しており、所定の間隙を有して配置されており、 カソードとアノードの間からカソードの貫通孔に至る空間を放電ガスが充たしていることを特徴とする金属イオンの供給装置。
IPC (1件):
C23C26/00
FI (1件):
C23C26/00 E
Fターム (9件):
4K044AA01 ,  4K044BA06 ,  4K044BB01 ,  4K044BB02 ,  4K044BC01 ,  4K044BC02 ,  4K044CA13 ,  4K044CA41 ,  4K044CA71
引用特許:
審査官引用 (8件)
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