特許
J-GLOBAL ID:200903019389723280

電子ビーム画像生成装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 岡田 守弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-262990
公開番号(公開出願番号):特開2002-075266
出願日: 2000年08月31日
公開日(公表日): 2002年03月15日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】本発明は、電子ビームをサンプルに照射して画像を生成する電子ビーム画像生成装置に関し、高速化および遅延蓄積可能にしてS/N比を向上させて更らなる高速画像生成を実現することを目的とする。【解決手段】帯状の電子ビーム12をサンプル5に向けて照射およびサンプルにバイアス電圧を印加してサンプル表面あるいはその直前で反転させて結像した帯状の電子像を直線状の複数検出素子17で検出すると共に、帯状の電子ビームの直角方向に走査を行いつつ直線状の複数検出素子を平行に並べて転送して遅延蓄積を行って高S/Nの画像を生成し、サンプルの表面の画像の生成速度を高速化する。
請求項(抜粋):
電子ビームをサンプルに照射して画像を生成する電子ビーム画像生成装置において、電子ビームを生成する照射装置と、サンプルに電子ビームの加速電圧とほぼ同じあるいは僅か高い負の電圧を印加するバイアス電圧源と、上記生成した電子ビームをもとに、上記負の電圧の印加されたサンプル表面あるいはサンプル表面の直前に帯状の電子ビーム像を結像すると共に、サンプル表面あるいはサンプル表面の直前で反転した帯状の電子ビームを結像する対物レンズと、上記反転した帯状の電子ビームの通路に配置してサンプル表面で照射方向に対してほぼ逆方向に反転した電子ビームのみを通過およびそれ以外の方向に反転した電子ビームを遮断、あるいは逆方向と若干異なる所定方向に反転した電子ビームのみを通過およびそれ以外の方向に反転した電子ビームを遮断するスリットと、上記スリットを通過した電子ビームを投影して帯状の電子像を形成する投影装置と、上記投影された帯状の電子像の位置に配置した複数画素からなる検出器と、上記帯状の電子ビームをサンプル表面あるいはサンプル表面の直前に、当該帯状の電子ビームを当該帯状に対してほぼ直角方向に走査する走査装置とを備えたことを特徴とする電子ビーム画像生成装置。
IPC (2件):
H01J 37/29 ,  H01J 37/28
FI (2件):
H01J 37/29 ,  H01J 37/28 Z
Fターム (2件):
5C033UU01 ,  5C033UU05
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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