機能水供給システム、及び機能水供給方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：志賀正武 , 渡邊隆 , 村山靖彦 , 実広信哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-071653
公開番号（公開出願番号）：特開2006-261674
出願日： 2006年03月15日
公開日（公表日）： 2006年09月28日
要約：

【課題】本発明は、機能水を用いて基板を洗浄する装置に機能水を供給するシステムを提供する。【解決手段】本発明のシステムにおいて、機能水生成器から生成された機能水が機能水供給管を通じて分配器に供給される。以後、機能水は、装置が工程進行中である際には装置に供給され、装置が工程進行しない際には機能水回収管を通じて機能水生成器に回収される。機能水供給管にはバッファタンクが設けられ、バッファタンクに連結された循環ラインで機能水の濃度が測定される。機能水の濃度が設定範囲を逸脱すると、搬送管を通じて機能水は機能水生成器に搬送される。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

機能水で基板を処理する装置の機能水を供給するシステムにおいて、機能水を生成する機能水生成器と、前記機能水生成器から生成された機能水を前記装置に供給する機能水供給管と、前記機能水供給管に設けられ、前記機能水生成器から生成された機能水を貯蔵するバッファタンクと、前記バッファタンク内の機能水に溶解されたガスの濃度を測定する濃度計測器と、前記バッファタンク内の機能水に溶解されたガスの濃度が設定範囲を逸脱した場合、前記バッファタンク内の機能水を前記機能水生成器に搬送させる機能水搬送管とを含むことを特徴とする機能水供給システム。

IPC (6件)：

H01L 21/304 , B01J 4/00 , B01F 1/00 , C02F 1/68 , C02F 1/78 , B01F 5/06

FI (9件)：

H01L21/304 647Z , H01L21/304 648F , B01J4/00 103 , B01F1/00 A , C02F1/68 520B , C02F1/68 530A , C02F1/78 , C02F1/68 530L , B01F5/06

Fターム (21件)：

4D050AA01 , 4D050BA14 , 4D050BB01 , 4D050BB02 , 4D050BD03 , 4D050BD04 , 4D050BD06 , 4D050BD08 , 4G035AA02 , 4G035AC26 , 4G035AE02 , 4G035AE13 , 4G068AA04 , 4G068AB11 , 4G068AC05 , 4G068AC14 , 4G068AD21 , 4G068AE10 , 4G068AF01 , 4G068AF16 , 4G068AF31

引用特許：

審査官引用 (5件)

半導体製造用の超高純度化学薬品の希釈方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-097636 出願人：ラベーユ・ソシエテ・アノニム
電子部品の洗浄方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-099554 出願人：ワッカー・エヌエスシーイー株式会社, 株式会社ピュアトロン, ペルメレック電極株式会社
基板表面処理方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-208968 出願人：三菱電機株式会社

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