特許

J-GLOBAL ID：200903019531839526

ガス流中粒子の測定及び/又は分析のためのシステム及び方法

発明者： ウェイン トーマス マクダーモット ,  リチャード カール オッコビック ,  ディーン ブイ.ロス
出願人/特許権者： エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッド
代理人 (5件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  永坂 友康 ,  西山 雅也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-027362
公開番号（公開出願番号）：特開2006-215035
出願日： 2006年02月03日
公開日（公表日）： 2006年08月17日
要約：

【課題】ガス原料流中の粒子を測定及び分析するためのシステム及びそれを含む方法の提供。【解決手段】一つの側面において、システムは、並列に配置される粒子計数器と粒子捕捉フィルタとを含む。もう一つの側面において、システムは、ガス原料流から微量の分子状不純物を除去して不純物の存在を減らすための浄化装置を含む。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

ガス原料流中の粒子を測定及び/又は分析するためのシステムであって、 粒子計数器、及び 粒子捕捉フィルタ、 を含み、当該粒子捕捉フィルタが当該粒子計数器と並列に配置されているガス原料流中粒子の測定及び/又は分析システム。

IPC (2件)：

G01N 15/06 ,  G01N 1/02

FI (2件)：

G01N15/06 D ,  G01N1/02 D

Fターム (6件)：

2G052AA03 ,  2G052AC28 ,  2G052AD02 ,  2G052BA22 ,  2G052EA03 ,  2G052GA09

引用特許：

審査官引用 (10件)

• エアロゾル中化学成分の捕集抽出装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-056154   出願人：株式会社島津製作所
• 半導体装置の製造過程で発生する汚染粒子の測定装置、測定方法及びその分析方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-134993   出願人：三星電子株式会社
• 特開平4-303738
  
• エンジン排気ガス中の粒状物の質量、粒径、個数のリアルタイム測定装置および方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2004-553432   出願人：サウスウエストリサーチインスティテュート
• 表面積測定用試料セル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-188564   出願人：株式会社島津製作所
• 圧縮ガス中の汚染粒子の分析方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-111953   出願人：レール・リキード・ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード
• 粒子状物質を分析する方法および装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2006-506199   出願人：ジョンソンマッセイパブリックリミテッドカンパニー
• ガス容器及び容器弁の評価方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-354941   出願人：レール・リキード・ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード
• 特開平2-298302
  
• 特開平2-098652