銅/タンタル基体に有用な化学的機械研磨スラリー

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石田敬 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-557321
公開番号（公開出願番号）：特表2002-519475
出願日： 1999年06月25日
公開日（公表日）： 2002年07月02日
要約：

【要約】本発明は、研磨材、酸化剤、錯化剤、膜形成剤および有機アミノ化合物を含む第1のCMPスラリー、研磨材、酸化剤、および酢酸を含み、酢酸に対する酸化剤の質量比が少なくとも10である第2研磨スラリー、ならびに第1および第2研磨スラリーを用いて銅を含む基体、そしてタンタルもしくは窒化タンタル、またはタンタルおよび窒化タンタルの両方を含む基体を逐次的に研磨するために使用する方法である。

請求項（抜粋）：

少くとも1つの研磨材;ならびに長鎖アルキルアミン、アルコールアミンおよびそれらの混合物から選ばれる少くとも1つの有機アミノ化合物、を含む化学的機械研磨スラリー前駆体。

IPC (3件)：

C09K 3/14 550 , C09G 1/02 , H01L 21/304 622

FI (3件)：

C09K 3/14 550 M , C09G 1/02 , H01L 21/304 622 D

引用特許：

出願人引用 (9件)

化学的機械研磨用研磨組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-223072 出願人：昭和電工株式会社
研磨剤および研磨方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-055290 出願人：株式会社東芝
金属の層と膜に使用される化学的機械的研磨用スラリー
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-119404 出願人：キャボットコーポレイション

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審査官引用 (9件)

化学的機械研磨用研磨組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-223072 出願人：昭和電工株式会社
研磨剤および研磨方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-055290 出願人：株式会社東芝
金属の層と膜に使用される化学的機械的研磨用スラリー
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-119404 出願人：キャボットコーポレイション

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