特許
J-GLOBAL ID：200903019849118356
アッシング後の処理液およびこれを用いた処理方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 洋子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-050302
公開番号（公開出願番号）：特開平11-316465
出願日： 1999年02月26日
公開日（公表日）： 1999年11月16日
要約：
【要約】【課題】 より過酷な条件のドライエッチング、アッシング処理により発生した残渣物の除去性に優れ、基板に対する腐食防止効果に優れたアッシング後の処理液、およびこれを用いた処理方法を提供する。【解決手段】 (a)低級アルキル第4級アンモニウム塩類を0.5〜10重量%、(b)多価アルコールを1〜50重量%含有させてアッシング後の処理液とする。そして、基板上に設けたホトレジストパターンをマスクとして、該基板にエッチング、アッシング処理をした後、上記処理液を適用して基板を処理する。
請求項（抜粋）：
(a)低級アルキル第4級アンモニウム塩類を0.5〜10重量%、(b)多価アルコールを1〜50重量%含有する、アッシング後の処理液。
IPC (4件)：
G03F 7/42
, H01L 21/027
, H01L 21/308
, H01L 21/3065
G03F 7/42
, H01L 21/308 F
, H01L 21/30 572 B
, H01L 21/302 H
