特許
J-GLOBAL ID：200903019913720898
光感応性酸発生剤およびそれらを含むフォトレジスト
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐伯 憲生
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-523093
公開番号（公開出願番号）：特表2004-521372
出願日： 2001年08月24日
公開日（公表日）： 2004年07月15日
要約：
新規な光感応性酸発生剤化合物(PAGs)およびそのような化合物を含むフォトレジスト組成物を提供する。詳しくは、トリ-ナフチルスルホニウム、チエニルヨードニウム、チエニルスルホニウム、ペンタフルオロフェニルヨードニウムおよびペンタフルオロフェニルスルホニウム化合物を含む、イオン性PAGsを提供する。本発明のPAGsは、サブ300nm、サブ200nm、およびサブ160nmのような短波長、たとえば、248nm、193nmおよび157nmでイメージ化するフォトレジストのための光活性成分として特に有用である。
請求項（抜粋）：
基板の上にフォトレジストレリーフ像を形成させるための方法であって:
(a)基板上に化学増幅ポジ型フォトレジスト組成物のコーティング層を塗布すること、ただし、このフォトレジスト組成物は樹脂と、置換されていてもよいナフチル、置換されていてもよいチエニルおよびペンタフルオロフェニルからなる群より選択された1または複数のカチオン基を有するヨードニウムまたはスルホニウム光感応性酸発生剤化合物とが含まれ;そして、
(b)前記フォトレジスト塗膜層を、波長が約200nm未満の、パターンを有する感放射線で露光させ、その露光されたフォトレジスト層を現像してレリーフ像を得る、ことを含む方法。
IPC (4件)：
G03F7/004
, G03F7/038
, G03F7/039
, H01L21/027
G03F7/004 503A
, G03F7/038 601
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB14
, 2H025CB16
, 2H025CB41
