特許
J-GLOBAL ID：200903045903779240
感光性組成物、およびこれを用いたパターン形成方法ならびに電子部品の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-366051
公開番号（公開出願番号）：特開平11-084663
出願日： 1997年12月24日
公開日（公表日）： 1999年03月26日
要約：
【要約】【課題】 短波長の紫外線に対して高い光透過性を示し、優れたアルカリ溶解性を有するとともに、基板との密着性やドライエッチング耐性も良好であり、レジスト材料として好適な感光性組成物を提供する。【解決手段】 下記一般式(1A)で表される繰り返し単位を有する高分子重合体と、化学放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感光性組成物である。【化1】上記一般式(1A)中、R11は、水素原子、脂肪族炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン原子またはシアノ基であり、R12は、脂肪族炭化水素基または環状オレフィンであり、R13は、a)炭素数2から12以下の直鎖オレフィン、環状オレフィンまたは複素環基、およびb)-(CH2 )m -(mは3以上9以下の整数である)で表わされる炭化水素基のいずれか一方である。R14は、親水性基である。
請求項（抜粋）：
下記一般式(1A)で表わされる繰り返し単位を有する高分子重合体と、化学放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有する感光性組成物。【化1】(上記一般式(1A)中、R11は、水素原子、脂肪族炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン原子またはシアノ基であり、R12は、脂肪族炭化水素基または環状オレフィンであり、R13は、a)炭素数2から12以下の直鎖オレフィン、環状オレフィンまたは複素環基、およびb)-(CH2 )m -(mは3以上9以下の整数である)で表わされる炭化水素基のいずれか一方である。R14は、親水性基である。)
IPC (5件)：
G03F 7/039 601
, C08F 20/10
, G03F 7/033
, H01L 21/027
, H01L 21/3065
G03F 7/039 601
, C08F 20/10
, G03F 7/033
, H01L 21/30 502 R
, H01L 21/302 H
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (10件)
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