特許
J-GLOBAL ID：200903020005552059
光導波路の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡本 寛之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-226016
公開番号（公開出願番号）：特開2006-047506
出願日： 2004年08月02日
公開日（公表日）： 2006年02月16日
要約：
【課題】 量産性の向上および低コスト化を図ることができ、かつ、作業性および生産安定性に優れる光導波路の製造方法を提供すること。【解決手段】 長尺の基材1の上に、フルオレン誘導体層2を連続して塗工し、これを硬化させてアンダークラッド層3を形成する。次いで、アンダークラッド層3の上に、感光性フルオレン誘導体層4を連続して塗工し、フォトマスク5を介して連続して所定のパターンで露光した後、連続して露光後加熱する。その後、連続して現像し、感光性フルオレン誘導体層4を所定のパターンに形成した後、連続して硬化させ、アンダークラッド層3の上にコア層6を所定のパターンで形成する。その後、アンダークラッド層3の上に、コア層6を被覆するように、フルオレン誘導体層8を連続して塗工し、これを硬化させて、オーバークラッド層7を形成する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
長尺の基材の上に、フルオレン誘導体層を連続して塗工し、これを硬化させることにより、下部クラッド層を形成する工程、
前記下部クラッド層の上に、感光性フルオレン誘導体層を連続して塗工する工程、
塗工後の感光性フルオレン誘導体層を、フォトマスクを介して連続して所定のパターンで露光する工程、
露光後の感光性フルオレン誘導体層を、連続して露光後加熱する工程、
加熱後の感光性フルオレン誘導体層を連続して現像することにより、前記感光性フルオレン誘導体層における未露光部分を除去して、前記感光性フルオレン誘導体層を所定のパターンに形成する工程、
現像後の感光性フルオレン誘導体層を硬化させることにより、前記下部クラッド層の上に、コア層を所定のパターンで形成する工程、
前記下部クラッド層の上に、前記コア層を被覆するように、フルオレン誘導体層を連続して塗工し、これを硬化させることにより、上部クラッド層を形成する工程
を含んでいることを特徴とする、光導波路の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (8件)：
2H047KA04
, 2H047PA02
, 2H047PA22
, 2H047PA24
, 2H047PA26
, 2H047PA28
, 2H047QA05
, 2H047TA43
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (7件)
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