特許
J-GLOBAL ID：200903021124929469
露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-150074
公開番号（公開出願番号）：特開平10-326742
出願日： 1997年05月23日
公開日（公表日）： 1998年12月08日
要約：
【要約】【課題】 物体面上に形成されているアライメントマークの位置を精密に測定し、微細な電子回路パターンを逐次作成する際に好適な露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。【解決手段】 レジストを塗布した被露光物体面上に露光光を照射して、その面上にパターンを形成する露光装置において該露光光として近接場光を用いていること。
請求項（抜粋）：
レジストを塗布した被露光物体面上に露光光を照射して、その面上にパターンを形成する露光装置において該露光光として近接場光を用いていることを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 529
, G03F 7/20 521
