特許
J-GLOBAL ID：200903021448770632

レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

発明者：
中村 剛

中村 剛 について

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清水 宏明

清水 宏明 について

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宮下 健一郎

宮下 健一郎 について

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土屋 純一

土屋 純一 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (4件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-334049
公開番号（公開出願番号）：特開2009-157040
出願日： 2007年12月26日
公開日（公表日）： 2009年07月16日
要約：
【課題】ディフェクトを低減できるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分(B)が、下記一般式(b1)[Q1は酸素原子を含む2価の連結基であり、Y1は置換基を有していてもよい炭素数1〜4のアルキレン基または置換基を有していてもよい炭素数1〜4のフッ素化アルキレン基であり、Xは置換基を有していてもよい炭素数3〜30の炭化水素基であり、A+は有機カチオンである。]で表される化合物(B1)と、下記一般式(b2)[R4は直鎖状のフッ素化アルキル基であり、A’+は有機カチオンである。]で表される化合物(B2)とを含有することを特徴とするレジスト組成物。[化1]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、 前記酸発生剤成分(B)が、下記一般式(b1)で表される化合物(B1)と、下記一般式(b2)で表される化合物(B2)とを含有することを特徴とするレジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R
Fターム (15件)：
2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA18 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (4件)
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