特許
J-GLOBAL ID：200903021457297540
リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 横田 裕弘
, 岩本 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-129255
公開番号（公開出願番号）：特開2005-317970
出願日： 2005年04月27日
公開日（公表日）： 2005年11月10日
要約：
【課題】倍率調整が可能なマイクロレンズアレイ系を用いて、パターンが付与されたビームを基板上へ投影するためのリソグラフィ装置及び方法を提供する。【解決手段】個別に制御可能な要素のアレイ1によってパターンが付与されたビームは、投影系によって基板2の標的部分上へ投影される。投影系は、ひとみからのビームを拡大するためのビーム・エキスパンダ7,8と、ビームに対して横切る方向に延在するレンズのアレイであって、アレイのそれぞれのレンズが、投影ビームのそれぞれの部分を、基板の標的部分の対応するそれぞれの部分上へ集束させるように延在するレンズ・アレイ11とを含む。レンズ構成要素のうちの少なくとも1つの構成要素の位置、例えばビーム・エキスパンダの視野レンズ又はレンズ・アレイの位置を調整して、投影系の倍率を調整する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
放射投影ビームを供給する照明系と、
前記投影ビームにパターンを付与するパターン形成系と、
基板を支持する基板テーブルと、
前記パターンが付与されたビームを前記基板の標的部分上へ投影し、前記パターン形成系と前記基板テーブルの間にひとみを画成する投影系と
を備え、前記投影系が、
前記ひとみと前記基板テーブルの間に位置する一連のレンズ構成要素
を含み、前記レンズ構成要素が、
前記ひとみからの前記パターンが付与されたビームを拡大するビーム・エキスパンダと、
前記パターンが付与されたビームに対して横切る方向に延在するレンズのアレイであって、前記レンズ・アレイのそれぞれのレンズが、前記パターンが付与されたビームのそれぞれの部分を、前記基板の前記標的部分の対応するそれぞれの部分上へ集束させるように延在するレンズ・アレイと
を含み、
前記投影系の焦点面を調整するため、前記レンズ構成要素のうちの少なくとも1つの構成要素の位置を前記ひとみに対して調整することができる
リソグラフィ装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 529
, G03F7/20 521
5F046BA04
, 5F046BA05
, 5F046BA07
, 5F046CB10
, 5F046CB12
, 5F046CB18
, 5F046CB25
, 5F046DA13
