特許
J-GLOBAL ID：200903021479266363
露光投影像予測システム及び露光投影像予測方法
発明者：
,
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出願人/特許権者：
代理人 (7件)：
三好 秀和
, 岩▲崎▼ 幸邦
, 川又 澄雄
, 中村 友之
, 伊藤 正和
, 高橋 俊一
, 高松 俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-025928
公開番号（公開出願番号）：特開2005-217378
出願日： 2004年02月02日
公開日（公表日）： 2005年08月11日
要約：
【課題】 半導体装置製造工程において、露光投影像を高精度に予測可能な露光投影像予測システムを提供する。【解決手段】 シミュレータ325、中央処理装置(CPU)300、露光装置3及び現像装置4を有するリソグラフィー装置1、顕微鏡装置332、線幅情報記憶装置336、設計値記憶装置340、初期パラメータ記憶装置339、リソグラフィー装置の誤差を補正する補正用フォーカススケーリング値及び補正用寸法バイアス値を保存する補正用パラメータ記憶装置341、リソグラフィー条件記憶装置338、入力装置312、出力装置313、プログラム記憶装置330及びデータ記憶装置331を備える。さらにCPU300は、線幅定義部323、焦点ズレ量にフォーカススケーリングを乗じた焦点条件をシミュレータ325に与える制御部304、シミュレータ325の算出結果に補正用寸法バイアス値を加える補正部305及びリソグラフィー装置制御部326を備える。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
リソグラフィー装置の焦点方向誤差を補正する補正用フォーカススケーリング値及び前記リソグラフィー装置によるパターン幅誤差を補正する補正用寸法バイアス値を保存する補正用パラメータ記憶装置と、
前記リソグラフィー装置に設定する焦点ズレ量に前記補正用フォーカススケーリング値を乗じた補正焦点条件で、レチクルを露光した場合の投影像モデルの算出を促す制御部と、
前記投影像モデルのパターン幅初期予測値に、前記補正用寸法バイアス値を加算する補正部
とを含むことを特徴とする露光投影像予測システム。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 515Z
, G03F7/20 521
, H01L21/30 569Z
5F046AA28
, 5F046CB01
, 5F046DA14
, 5F046LA14
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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